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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-1995-0059382 (1995-12-27) |
공개번호 | 10-1997-0048673 (1997-07-29) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019950059382 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 반도체소자의 제조공정중 웨이퍼를 검사하기 위한 검사장비에 관한 것으로 특히 주사형 전자현미경에 대한 것이다. 종래의 주사형 전자현미경은 정밀측정을 위하여 저배율에서 위치를 파악한 후 저배율로 검사하는 단계에서 관찰자가 원하는 위치가 벗어나게 되어 사용법에 미숙한 관찰자의 경우에는 관찰하기 곤란한 문제점이 있었다. 본 발명은 상술한 문제점을 극복하기 위한 것으로, 반도체소자의 제조공정중 광학렌즈부를 이용하여 검사할 위치를 선택한 후 전자빔을 이용하여 웨이퍼를 정밀 검사하는 주사형 전자현미경(SEM)에 있어서, 상기 광학 렌
반도체소자의 제조공정중 광학렌즈부를 이용하여 검사할 위치를 선택한 후 전자빔을 이용하여 웨이퍼를 정밀검사하는 주사형 전자현미경(SEM)에 있어서, 상기 광학 렌즈부는 줌의 비율을 조절할 수 구조로 형성한 것을 특징으로 하는 주사형 전자현미경.
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