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[한국특허] 질화규소계 소결체 및 그의 제조방법
SINTERED SILICON NITRIDE BASED BODY AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
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IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C04B-035/584
출원번호 10-1996-0002998 (1996-02-08)
공개번호 10-1996-0031030 (1996-09-17)
등록번호 10-0177893-0000 (1998-11-19)
DOI http://doi.org/10.8080/1019960002998
발명자 / 주소
  • 히구치 마쯔오 / 일본국 효고켕 이타미시 코야키타 *죠오메 *-* 스미도모덴기고오교오 가부시기가이샤 이타미세이사쿠쇼나이
  • 우케가와 하루토시 / 일본국 효고켕 이타미시 코야키타 *죠오메 *-* 스미도모덴기고오교오 가부시기가이샤 이타미세이사쿠쇼나이
출원인 / 주소
  • 스미토모덴키고교가부시키가이샤 / 일본 오사카후 오사카시 쥬오쿠 기타하마 *쵸메 *반**고
대리인 / 주소
  • 신중훈; 임옥순 (SHIN, Joong Hoon)
  • 서울 서초구 서초*동 ****-* 동아빌라트*타운 ***호; 서울 서초구 서초*동 ****-* 동아빌라트*타운 ***호
심사청구여부 있음 (1996-02-08)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 소멸

초록

입자경계상이 20중량%이하이고, 그 나머지부분이 질화규소 및/또는 사이알론입자의 주장으로 이루어진 질화규소계소결체는, 상기 주상이 β-Si3N4상 및/또는 β'-사이알론상의 입자상을 함유하고, 상기 주상에 대한 상기 β-Si3N4상 및/또는 β'-사이알론상의 입자상의 양비가 0.5~1.0의 범위에 있고 ; 상기 입자경계상이 제1결정성분으로서 Re2Si2O7(단, Re는 Er과 Yb이외의 희토류원소)과, 제2결정성분으로서 ReSiNO2, Re3Al5O12, ReAlO3 및 Si3N4·Y2O3중 적어도 1종을 함유하며 ; 상기 입자경계

대표청구항

입자경계상이 20중량%이하이고, 그 나머지부분이 질화규소 및 또는 사이알론입자의 주상으로 이루어진 질화규소계소결체에 있어서 ; 상기 주상은 β-Si3N4상 및/또는 β'-사이알론상으로 형성된 입자상을 함유하고, 상기 주상에 대한 상기 β-Si3N4상 및/또는 β'-사이알론상으로 형성된 입자상의 양비가 0.5~1.0의 범위에 있고 ; 상기 입자경계상은 제1결정성분으로서 Re2Si2O7(단, Re는 Er과 Yb이외의 희토류원소를 나타냄, 이하동일)과, 제2결정성분으로서 ReSiNO2, Re3Al5O12, ReAlO3 및 Si3N4·Y2

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