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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-1996-0028714 (1996-07-16) |
공개번호 | 10-1998-0009502 (1998-04-30) |
등록번호 | 10-0203377-0000 (1999-03-23) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019960028714 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (1996-07-16) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 유리기판 상에 증착되는 금속박막의 접착력을 향상시키는 방법에 관한 것으로, 이온주입장치와 거대한 장치를 사용하지 않으면서 저 에너지의 고전류 이온을 이용하여 소재 특성의 열화를 없애고, 금속박막과 유리기판의 접착력을 향상시키는 방법이다.본 발명은 유리기판을 초음파 용기에서 아세톤으로 세척하고, 증류수로 세척한 후에 질소분위기에서 소정의 온도로 일정시간 건조하며, 건조된 유리기판을 진공조에 넣고 고전류 이온원을 사용하여 수 keV 이온을 만들어 금속표적에 조사함으로써 금속원자를 스퍼터링시켜 유리기판에 금속을 증착하고, 이와
증착시키고자 하는 금속을 유리기판에 증착하고 난 후, 증착된 금속박막에 불활성 기체 또는 반응성 가스의 이온을 일정한 에너지를 가지고 조사하여 금속박막의 빈 공간(void)을 줄여 밀한(dense)박막으로 만들어 줌으로써 금속과 유리기판의 접착력을 향상시키도록 한 금속박막의 접착력 증대 방법.제1항에 있어서, 상기 이온의 종류는 He, Ne, Ar, Kr, Xe등과 같은 불활성 기체 또는, N2, O2, 공기 등과 같은 반응성 가스 중에서 선택된 어느 한 가지 기체인 것을 특징으로 하는 금속박막의 접착력 증대 방법.제1항에 있어서,
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