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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-1996-0039408 (1996-09-11) |
공개번호 | 10-1998-0020809 (1998-06-25) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019960039408 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (1996-09-11) |
심사진행상태 | 포기(등록결정전 포기서제출) |
법적상태 | 포기 |
자기장(Magnetic Field)을 형성하는 철심을 챔버커버(Chamber Cover)에 부착하여 식각 공정시 자기장의 형성으로 플라즈마(Plasma)의 분포를 균일하게 유지시켜서 정확한 공정 수행을 할 수 있도록 개선시킨 반도체 플라즈마 식각챔버에 관한 것이다.본 발명은, 반도체 웨이퍼에 적층되는 막질을 플라즈마(Plasma)로 식각하기 위하여 식각챔버가 구비된 반도체 플라즈마 식각챔버에 있어서, 공정 수행시 자기장이 형성되는 철심이 부착되어 상
반도체 웨이퍼에 적층되는 막질을 플라즈마(Plasma)로 식각하기 위하여 식각챔버가 구비된 반도체 플라즈마 식각챔버에 있어서,공정 수행시 자기장이 형성되는 철심이 부착되어 상기 식각챔버를 덮는 챔버커버; 및전류의 공급에 의해 자기장이 형성되도록 상기 철심에 전류를 공급하는 전류공급부;를 구비하여 이루어짐을 특징으로 하는 반도체 플라즈마 식각챔버.
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