[특허]반도체장치 제조용 급속 열처리(RTP)장비

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반도체장치 제조용 급속 열처리(RTP)장비 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)	H01L-021/324
출원번호	10-1996-0049279 (1996-10-28)
공개번호	10-1998-0029946 (1998-07-25)
DOI	http://doi.org/10.8080/1019960049279
발명자 / 주소	유승일 / 서울특별시 강북구 미아동 -*번지 미아타운 동 *호 이정규 / 서울특별시 강남구 일원동 현대아파트 동 ***호
출원인 / 주소	삼성전자주식회사 / 경기도 수원시 영통구 매탄동 ***
대리인 / 주소	박만순; 신동준 (PARK, Man Soon) 서울 강남구 역삼동 *- 덕원빌딩 층; 서울서초구서초동**-서초제일빌딩***호(인벤티브국제특허법률사무소)
심사진행상태	취하(심사미청구)
법적상태	취하

초록 ▼

본 발명은 반도체장치 제조용 급속 열처리(이하 'RTP'라 약칭)장비에 관한 것이다.본 발명에 따른 반도체장치 제조용 RTP장비는, 웨이퍼가 거치되는 구조체, 상기 웨이퍼를 가열하기 위한 히터, 상기 구조체와 상기 히터를 포괄하는 챔버 벽체를 구비하여 이루어지는 RTP장비에 있어서, 상기 구조체에 온도정보를 발신할 수 있는 온도측정장치가 부착되고 상기 온도측정장치의 신호를 받아 온도를 표시하는 표시장치가 더 구비되어 이루어지는 것을 특징으로

대표청구항

웨이퍼가 거치되는 구조체, 상기 웨이퍼를 가열하기 위한 히터, 상기 구조체와 상기 히터를 포괄하는 챔버 벽체를 구비하여 이루어지는 급속 열처리(RTP)장비에 있어서,상기 구조체의 적어도 일부에 온도정보를 발신할 수 있는 온도측정장치가 부착되고 상기 온도측정장치의 신호를 받아 온도를 표시하는 표시장치가 더 구비되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체장치 제조용 급속 열처리장비.

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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