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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-1996-0056174 (1996-11-21) |
공개번호 | 10-1998-0037424 (1998-08-05) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019960056174 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
웨이퍼 상에 형성된 막질을 균일하게 식각할 수 있는 반도체 건식식각설비의 포커스링에 관한 것이다.본 발명은, 식각챔버 내부의 캐소드전극 상부에 위치하는 받침부와 상기 받침부와 상부로 연장되는 몸체부로 구성된 포커스링에 있어서, 상기 포커스링의 몸체부 내부직경은 165 ㎜ 내지 175 ㎜ 정도의 길이를 가지도록 제작됨을 특징으로 한다.따라서, 웨이퍼 상에 형성된 막질이 균일하게 식각되므로 수직적인 구조를 형성할 수 있는 효과가 있다.
식각챔버 내부의 캐소드전극 상부에 위치하는 받침부와 상기 받침부와 상부로 연장되는 몸체부로 구성된 포커스링에 있어서,상기 포커스링의 몸체부 내부직경은 165 ㎜ 내지 175 ㎜ 정도의 길이를 가지도록 제작됨을 특징으로 하는 반도체 건식식각설비의 포커스링.
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