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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-1997-0053714 (1997-10-20) |
공개번호 | 10-1999-0032627 (1999-05-15) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019970053714 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 반도체 제조공정에서 반도체를 습식식각하기 위한 습식식각 시스템에 관한 것으로, 약액이 수용되고, 웨이퍼가 로딩되어 습식식각공정이 수행되는 습식공정조와, 습식공정조로 공급된 약액을 가열하는 히터를 제어하는 온도 제어부와, 습식공정조의 사용시간별 약액농도변화를 검출하는 농도측정 센서와, 농도측정 센서로부터 검출된 측정값을 입력받아 제어신호를 발생하는 중앙제어부와, 중앙제어부로부터 발생되는 제어신호에 따라 습식공정조로 공급하는 약액 공급량을 조절하는 약액공급부 및, 온도제어부의 히터전원 공급시간과 약액공급부의 약액공급시간을 체
약액이 수용되고, 웨이퍼가 로딩되어 습식식각공정이 수행되는 습식공정조(50)와;상기 습식공정조(50)로 공급된 약액을 가열하는 히터(52)를 제어하는 온도 제어부(60)와;상기 습식공정조(50)의 사용시간별 약액농도변화를 검출하는 농도측정 센서(72)와;상기 농도측정 센서(72)로부터 검출된 측정값을 입력받아 제어신호를 발생하는 중앙제어부(70)와;상기 중앙제어부(70)로부터 발생되는 제어신호에 따라 상기 습식공정조(50)로 공급하는 약액 공급량을 조절하는 약액공급부(80) 및; 상기 온도제어부(60)의 히터전원 공급시간과 상기 약
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