초록 ▼

본 발명은 반도체 제조 공정에 사용되는 습식식각 시스템에 관한 것으로, 습식식각 시스템은 약액이 수용되고, 웨이퍼가 로딩되어 습식식각 공정이 수행되는 습식공정조와, 이 습식공정조의 사용시간별 약액농도변화를 검출하는 농도측정 센서와, 이 농도측정 센서로부터 검출된 측정값을 입력받아 제어신호를 발생하는 제어부와, 이 제어부로부터 발생되는 제어신호에 따라 습식공정조로 공급 라인을 통해 약액을 공급하는 약액공급부 및 공급 라인상에 설치되고 공급 라인으로 흐르는 약액의 유량을 검출하여, 습식공정조로 약액이 정상적으로 공급되고 있는지를 확인하

본 발명은 반도체 제조 공정에 사용되는 습식식각 시스템에 관한 것으로, 습식식각 시스템은 약액이 수용되고, 웨이퍼가 로딩되어 습식식각 공정이 수행되는 습식공정조와, 이 습식공정조의 사용시간별 약액농도변화를 검출하는 농도측정 센서와, 이 농도측정 센서로부터 검출된 측정값을 입력받아 제어신호를 발생하는 제어부와, 이 제어부로부터 발생되는 제어신호에 따라 습식공정조로 공급 라인을 통해 약액을 공급하는 약액공급부 및 공급 라인상에 설치되고 공급 라인으로 흐르는 약액의 유량을 검출하여, 습식공정조로 약액이 정상적으로 공급되고 있는지를 확인하기 위한 검출부로 이루어진다.

대표청구항 ▼

약액이 수용되고, 웨이퍼가 로딩되어 습식식각 공정이 수행되는 습식공정조(50)와;상기 습식공정조(50)의 사용시간별 약액농도변화를 검출하는 농도측정 센서(72)와;상기 농도측정 센서(72)로부터 검출된 측정값을 입력받아 제어신호를 발생하는 제어부(70)와;상기 제어부(70)로부터 발생되는 제어신호에 따라 상기 습식공정조(50)로 공급 라인을 통해 약액을 공급하는 약액공급부(80) 및; 상기 공급 라인상에 설치되고 상기 공급 라인으로 흐르는 약액의 유량을 검출하여, 상기 습식공정조로 약액이 정상적으로 공급되고 있는지를 확인하기 위한

약액이 수용되고, 웨이퍼가 로딩되어 습식식각 공정이 수행되는 습식공정조(50)와;상기 습식공정조(50)의 사용시간별 약액농도변화를 검출하는 농도측정 센서(72)와;상기 농도측정 센서(72)로부터 검출된 측정값을 입력받아 제어신호를 발생하는 제어부(70)와;상기 제어부(70)로부터 발생되는 제어신호에 따라 상기 습식공정조(50)로 공급 라인을 통해 약액을 공급하는 약액공급부(80) 및; 상기 공급 라인상에 설치되고 상기 공급 라인으로 흐르는 약액의 유량을 검출하여, 상기 습식공정조로 약액이 정상적으로 공급되고 있는지를 확인하기 위한 검출부를 포함하는 습식식각 시스템.