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[한국특허] 바이페닐계에폭시 화합물의 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C08G-059/06
출원번호 10-1998-0027003 (1998-07-04)
공개번호 10-1998-0071938 (1998-10-26)
DOI http://doi.org/10.8080/1019980027003
발명자 / 주소
  • 백종현 / 대전광역시 유성구 신성동 삼성 한울 아파트 ***-****
  • 박태규 / 대전광역시 유성구 도룡동 ***-* ** 아파트 *-***
  • 김기철 / 대전광역시 유성구 도룡동 ***-* 기숙사 ***
  • 김승국 / 울산광역시 남구 신정*동 ****-* ** 화학사택 *-***
출원인 / 주소
  • (주)헥시온코리아 / 울산광역시 울주군 온산읍 화산리 ***
대리인 / 주소
  • 김성기 (KIM, Seong Ki)
  • 서울 중구 충무로*가 **-* 극동빌딩 **층(김성기특허법률사무소)
심사청구여부 있음 (2000-07-13)
심사진행상태 거절결정(일반)
법적상태 거절

초록

본 발명은 바이페닐(biphenyl)계 에폭시 화합물에 관한 것이다. 본 발명은 특히 고순도 테트라메틸 바이페닐 에폭시 화합물의 제조 방법에 관한 것으로, 반도체 봉지제 및 전자용 소재로 사용 가능한 고순도 에폭시 화합물로서 가수분해성 염소함량이 400 ppm 미만이고 에폭시 당량이 195 이하인 고순도 테트라메틸 바이페닐 에폭시 화합물의 제조법에 관한 것이다.

대표청구항

3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-바이페놀 100 중량부와 에피클로로히드린 380∼770 중량부에 염기성 화합물 1.01∼1.05 몰 첨가하여 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-바이페닐 에폭시 화합물을 제조하는 것을 특징으로 하는 바이페닐계 에폭시 제조 방법.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. [한국] 4,4'-비페놀골격-함유에폭시 수지의 제조방법 | 무라타야수유키, 나카니시요시노리, 요시무라마사노리
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