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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-1998-0045473 (1998-10-28) |
공개번호 | 10-2000-0027528 (2000-05-15) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019980045473 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (1999-03-29) |
심사진행상태 | 거절결정(일반) |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 반도체 제조 장치에 관한 것으로, 특히, 포토리소그라피 공정에서 포토레지스트와 혼합되어져 있는 기포들을 제거하기 위한 기포 제거 장치에 관한 것이다. 본 발명의 기포 제거 장치는, 포토레지스트가 담겨지는 탱크; 상기 탱크의 일측면에 설치되어 포토레지스트를 유입시키게 되는 포토레지스트 유입라인 및 제1밸브; 상기 탱크의 상측면에 설치되며, 탱크 내부를 진공 상태로 만들어 상기 포토레지스트 유입라인을 통해 탱크 내부에 포토레지스트가 유입되도록 하고, 상기 포토레지스트와 함께 탱크에 유입되어진 기포가 제거되도록 상기 탱크 내부
포토레지스트가 담겨지는 탱크; 상기 탱크의 일측면에 설치되어 포토레지스트를 유입시키게 되는 포토레지스트 유입라인 및 제1밸브; 상기 탱크의 상측면에 설치되며, 탱크 내부를 진공 상태로 만들어 상기 포토레지스트 유입라인을 통해 탱크 내부에 포토레지스트가 유입되도록 하고, 상기 포토레지스트와 함께 탱크에 유입되어진 기포가 제거되도록 상기 탱크 내부의 진공 상태를 유지시키기 위하여 구비되는 진공라인 및 제2밸브; 상기 탱크의 상측면에 설치되며, 상기 탱크 내부를 대기 상태로 만들어 기포가 제거된 포토레지스트가 상기 탱크의 외부로 유출되도
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