초록

전해질 흡착 표면을 갖는 가열된 침지형이, 사실상 음이온성 술포네이트기를 갖는 유화제에 의해 안정화되고, 유액이 비이온성 폴리에테르기를 갖고 운점이 30 내지 40 ℃인 유기실리콘 텐시드에 의해 열 증감되는 수성 유액 조성물내로 침지되는 침지-코팅 제품의 제조 방법이 개시되어 있다.

대표청구항 ▼

전해질이 응고제로서 표면상에 흡착되는 온도 T에서, 1개 이상의 에틸렌적으로 불포화된 기를 함유하고 30 중량% 이상이 2개의 에틸렌적으로 불포화된 공액 2중 결합을 갖는 단량체의 자유 라디칼 수성 유화 중합 방법에 의해 얻어진 중합체 수분산액을 포함하는, 분산된 중합체의 중량을 기준으로 하기 표 2의 성분이 첨가된 수성 유액 침지 조성물내로 침지형이 침지되되, 단, - 침지형의 표면상에 흡착된 전해질은 브뢴스테드산 및(또는) 염이고,- 자유 라디칼 수성 유화 중합은 50 중량% 이상이 C10-C20 탄화수소의 모노술폰산의 수가용성

전해질이 응고제로서 표면상에 흡착되는 온도 T에서, 1개 이상의 에틸렌적으로 불포화된 기를 함유하고 30 중량% 이상이 2개의 에틸렌적으로 불포화된 공액 2중 결합을 갖는 단량체의 자유 라디칼 수성 유화 중합 방법에 의해 얻어진 중합체 수분산액을 포함하는, 분산된 중합체의 중량을 기준으로 하기 표 2의 성분이 첨가된 수성 유액 침지 조성물내로 침지형이 침지되되, 단, - 침지형의 표면상에 흡착된 전해질은 브뢴스테드산 및(또는) 염이고,- 자유 라디칼 수성 유화 중합은 50 중량% 이상이 C10-C20 탄화수소의 모노술폰산의 수가용성 알칼리 금속 염 및(또는) 암모늄 염으로 이루어진 분산제의 존재하에 일어나며,- 수성 유액 침지 조성물은 첨가된 열응고제로서, 폴리에테르기를 함유하고20 내지 60 ℃의 운점을 갖는 비이온성 유기실리콘 계면활성제를 포함하고,- 온도 T는 유기실리콘 계면활성제의 운점 보다 높은 침지 제품의 제조 방법.<표 2>중량%성분 0.25 내지 2.5 황 0.25 내지 10 산화아연 0.5 내지 1.5 가황 촉진제 0.5 내지 1.0 노화 방지제 0 내지 10 불용성 무기 충진제 0 내지 1.5 착색제 0 내지 10 가소제제1항에 있어서, 첨가된 유기실리콘 계면활성제의 운점이 30 내지 40 ℃인 방법.제1 또는 2항에 있어서, 온도 T가 40 ℃ 내지 150 ℃인 방법.제1 내지 3항 중 어느 한 항에 있어서, 온도 T가 60 내지 90 ℃인 방법.제1 내지 4항 중 어느 한 항에 있어서, 자유 라디칼 수성 유화 중합이 75 중량% 이상은 C10-C20 탄화수소의 모노술폰산의 수가용성 알칼리 금속 염 및(또는) 암모늄 염으로 이루어진 분산제의 존재하에 일어나는 방법.제1 내지 4항 중 어느 한 항에 있어서, 자유 라디칼 수성 유화 중합이 C10-C20 탄화수소의 모노술폰산의 수가용성 알칼리 금속 염 및(또는) 암모늄 염으로만 이루어진 분산제의 존재하에 일어나는 방법.제1 내지 6항 중 어느 한 항에 있어서, C10-C13-알킬벤젠술포네이트가 C10-C20 탄화수소의 모노술폰산의 1 종 이상의 알칼리 금속 염 및(또는) 암모늄 염으로서 사용되는 방법.제1 내지 6항 중 어느 한 항에 있어서, C13-C18-알칸술포네이트가 C10-C20 탄화수소의 모노술폰산의 1 종 이상의 알칼리 금속 염 및(또는) 암모늄 염으로서 사용되는 방법.제1 내지 8항 중 어느 한 항에 있어서, 바젠솔 (Basensol) HA 5가 폴리에테르기를 함유하는 비이온성 유기실리콘 계면활성제로서 사용되는 방법.제1 내지 8항 중 어느 한 항에 있어서, 코아굴란트 (Coagulant) WS가 폴리에테르기를 함유하는 비이온성 유기실리콘 계면활성제로서 사용되는 방법.제1 내지 10항 중 어느 한 항에 있어서, 분산된 중합체 입자의 중량 평균 직경이 80 내지 300 ㎚인 방법.제1 내지 10항 중 어느 한 항에 있어서, 분산된 중합체 입자의 중량 평균 직경이 100 내지 200 ㎚인 방법.제1 내지 10항 중 어느 한 항에 있어서, 분산된 중합체 입자의 중량 평균 직경이 100 내지 200 ㎚인 방법.제1 내지 13항 중 어느 한 항에 있어서, 중합체 수분산액이 에틸렌적으로 불포화된 2개의 공액 기를 갖는 1종 이상의 단량체 (단량체 A) 30 내지 100 중량%,25 ℃ 및 1 기압에서의 몰랄 수용해도가 아크릴로니트릴의 상응하는 몰랄 수용해도 보다 큰, 모노에틸렌적으로 불포화된 1 종 이상의 단량체 (단량체 B) 0 내지 10 중량%, 및25 ℃ 및 1 기압에서의 몰랄 수용해도가 아크릴로니트릴의 상응하는 몰랄 수용해도 보다 크지 않은, 모노에틸렌적으로 불포화된 1 종 이상의 단량체 (단량체 C) 0 내지 70 중량%의 단량체 혼합물의 자유 라디칼 수성유화 중합 방법에 의해 얻어지는 방법.제14항에 있어서, 단량체 A가 부타디엔, 2-메틸부타디엔, 2,3-디메틸부타디엔, 1,3-펜타디엔 및 2,4-펜타디엔으로 이루어진 군으로부터의 1종 이상의 단량체를 포함하는 것인 방법.제14 또는 15항에 있어서, 사용된 단량체 B가 α,β-모노에틸렌적으로 불포화된 C3-C6 모노- 및 디카르복실산, 이들의 염, 이들의 아미드, 비닐술폰산, 그의 염, 및 N-비닐피롤리돈으로 이루어진 군으로부터의 1종 이상의 단량체를 포함하는 것인 방법.제14 내지 16항 중 어느 한 항에 있어서, 사용된 단량체 C가 스티렌, 비닐톨루엔, o-클로로스티렌, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 및 아크릴산 또는 메타크릴산과 C1-C8 알칸올과의 에스테르로 이루어진 군으로부터의 1종 이상의 단량체를 포함하는 것인 방법.제14 내지 17항 중 어느 한 항에 있어서, 부타디엔이 단량체 A로서만 사용되는 방법.제14 내지 18항 중 어느 한 항에 있어서, 메타크릴산이 단량체 B로서만 사용되는 방법.제14 내지 19항 중 어느 한 항에 있어서, 아크릴로니트릴 또는 스티렌이 단량체 C로서 사용되는 방법.제14 내지 20항 중 어느 한 항에 있어서, 자유 라디칼 수성 유화 중합 방법에 의해 중합되는 단량체 혼합물의 조성이 단량체 A 30 내지 90 중량%, 단량체 B 1 내지 10 중량% 및 단량체 C 9 내지 60 중량%인 방법.제14 내지 21항 중 어느 한 항에 있어서, 자유 라디칼 수성 유화 중합 방법에 의해 중합되는 단량체 혼합물의 조성이 단량체 A 45 내지 70 중량%, 단량체 B 3 내지 10 중량% 및 단량체 C 27 내지 45 중량%인 방법.제22항에 있어서, 단량체 A가 부타디엔이고, 단량체 B가 메타크릴산이며, 단량체 C가 아크릴로니트릴인 방법.제14 내지 23항 중 어느 한 항에 있어서, 자유 라디칼 수성 유화 중합의 과정에 얻어진 중합체 수분산액의 필름의, 중합체에 화학적으로 결합된 양성자의 횡단선 핵 자기 완화 시간 (transversal nuclear magnetic relaxation time) (1HT2)이 2.5 내지 4.5 ms인 방법.