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| 국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
|---|---|
| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-1999-0035206 (1999-08-24) |
| 공개번호 | 10-2001-0019007 (2001-03-15) |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1019990035206 |
| 발명자 / 주소 |
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| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
| 법적상태 | 취하 |
본 발명은 플라즈마 중합 박막코팅장치에 관한 것으로서, 진공챔버 내의 전극 주위에 전장 인가 방향과 각도를 이루는 보조 전극을 설치한 것을 특징으로 하는 플라즈마중합 박막코팅장치를 제공한다. 본 발명에 의하면 플라즈마중합 장치에 있어서, 전극 사이에 형성되는 전장에 의한 전하 플럭스의 균일성을 증가시키기 위한 수단으로 또 다른 전장을 형성하는 보조 전극을 제공함으로써 중합의 균일성을 증가시킬 수 있으며, 특히 본 발명은 대면적의 시료를 코팅 처리하거나 연속적으로 코팅처리함에 있어서 고품질의 중합막을 형성할 수 있다.
전극 주위에 전장 인가 방향과 각를 이루는 보조전극이 설치되어 있는 증착챔버와, 진공 챔버의 압력을 조절하기 위한 진공 펌프와, 표면처리 하고자 하는 시료 주위에 반응성 가스 및 비반응성 가스를 주입하는 반응 가스 조절장치를 포함하여 구성되는 플라즈마중합 박막코팅장치.
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