초록 ▼

대면적의 기판에 빠른 속도로 균일한 두께의 막을 증착할 수 있는 챔버구조를 갖는 PECVD 장비와, 4-마스크 TFT-LCD 패널 제조의 생산성을 높일 수 있는 다중 클러스터 타입의 증착장비에 관해 개시하고 있다. 본 발명의 PECVD 장비의 가장 큰 특징은 개선된 챔버 구조를 채용한 것인데, 샤워헤드 대신에 인젝터를 사용하였으며, 챔버 내부를 NF3 플라즈마로 세정할 경우에 발생하는 문제를 방지하기 위해, 석영튜브가 챔버벽의 적어도 일부와 더불어 서셉터를 둘러싸는 밀폐구조를 이룬다. 전극은, 고밀도 플라즈마를 생성할 수 있도록,

대면적의 기판에 빠른 속도로 균일한 두께의 막을 증착할 수 있는 챔버구조를 갖는 PECVD 장비와, 4-마스크 TFT-LCD 패널 제조의 생산성을 높일 수 있는 다중 클러스터 타입의 증착장비에 관해 개시하고 있다. 본 발명의 PECVD 장비의 가장 큰 특징은 개선된 챔버 구조를 채용한 것인데, 샤워헤드 대신에 인젝터를 사용하였으며, 챔버 내부를 NF3 플라즈마로 세정할 경우에 발생하는 문제를 방지하기 위해, 석영튜브가 챔버벽의 적어도 일부와 더불어 서셉터를 둘러싸는 밀폐구조를 이룬다. 전극은, 고밀도 플라즈마를 생성할 수 있도록, 다양한 구조를 갖는다. 한편, 본 발명의 다중 클러스터 타입의 증착장비는, 기존의 클러스터 타입 PECVD 설비에서 일부 챔버를 스퍼터링 챔버로 개조한 것을 특징으로 한다. 이와 같은 다중 클러스터 타입의 증착장비에 의하면, 우수한 생산성으로 4-마스크 TFT-LCD 패널을 제조할 수 있다.

대표청구항 ▼

막이 형성될 기판을 장착하며, 상기 기판의 온도를 조절하는 수단을 가지는 서셉터와;상기 서셉터를 그 내부에 포함하는 챔버벽과;상기 챔버벽의 적어도 일부와 더불어 상기 서셉터를 둘러싸는 밀폐구조를 이루며, 상기 챔버벽의 내부에 포함되는 석영튜브와;상기 밀폐구조의 내부에 막 형성을 위한 반응가스를 도입하는 적어도 하나 이상의 인젝터수단과;상기 밀폐구조내 진공 및 압력을 일정하게 유지하기 위해 챔버벽에 하나이상의 배기구를 가지고 외부의 진공펌프에 연결된 압력조절수단과;상기 챔버내의 온도를 일정하게 유지하기 위해 챔버벽의 외부에 설치된 온

막이 형성될 기판을 장착하며, 상기 기판의 온도를 조절하는 수단을 가지는 서셉터와;상기 서셉터를 그 내부에 포함하는 챔버벽과;상기 챔버벽의 적어도 일부와 더불어 상기 서셉터를 둘러싸는 밀폐구조를 이루며, 상기 챔버벽의 내부에 포함되는 석영튜브와;상기 밀폐구조의 내부에 막 형성을 위한 반응가스를 도입하는 적어도 하나 이상의 인젝터수단과;상기 밀폐구조내 진공 및 압력을 일정하게 유지하기 위해 챔버벽에 하나이상의 배기구를 가지고 외부의 진공펌프에 연결된 압력조절수단과;상기 챔버내의 온도를 일정하게 유지하기 위해 챔버벽의 외부에 설치된 온도조절수단과;상기 반응가스를 활성화시키기 위한 플라즈마수단을 구비하는 반응챔버를 가지는 PECVD 장비.제1항에 있어서, 상기 서셉터가:그래파이트, SiC 및 비정질 카본으로 구성된 군으로부터 선택된 어느 하나의 재질로 만들어진 것을 특징으로 하는 PECVD 장비.제1항에 있어서, 상기 서셉터의 위치를 상기 밀폐구조 내에서 변화시킬 수 있는 수단을 더 구비한 것을 특징으로 하는 PECVD 장비.제1항에 있어서, 상기 석영튜브가 사각뿔형 또는 돔형인 것을 특징으로 하는 PECVD 장비.제1항에 있어서, 상기 플라즈마 수단이 플라즈마 파워를 인가할 수 있는 전극을 포함하며, 상기 전극이 상기 석영튜브의 외벽에 설치된 것을 특징으로 하는 PECVD 장비.제5항에 있어서, 상기 전극이, 사각뿔형 또는 정점이 잘린 사각뿔형인 것을 특징으로 하는 PECVD 장비.제5항에 있어서, 상기 전극이 상기 석영튜브를 둘러싸는 코일형인 것을 특징으로 하는 PECVD 장비.제1항에 있어서, 상기 인젝터 수단의 어느 하나가:상기 석영튜브의 정점을 관통하여 상기 밀폐구조 내부까지 연장된 것을 특징으로 하는 PECVD 장비.제8항에 있어서, 상기 어느 하나의 인젝터 수단이 적어도 2개 이상의 분기관을 구비하는 것을 특징으로 하는 PECVD 장비.적어도 하나 이상의 PECVD 챔버와;적어도 하나 이상의 스퍼터링 챔버와;상기 챔버들 사이에서의 기판의 이동이 진공상태에서 이루어질 수 있도록 하는 기판 이송수단을 구비하는 다중 클러스터 타입의 증착장비.제10항에 있어서, 상기 스퍼터링 챔버에 수소 및 산소 중의 적어도 어느 하나의 가스의 공급수단이 더 마련된 것을 특징으로 하는 다중 클러스터 타입의 증착장비.