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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2003-0021141 (2003-04-03) |
공개번호 | 10-2004-0086948 (2004-10-13) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020030021141 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 액정표시장치를 제조하는 공정 중 박막을 형성하는 증착장비의 구조를 개선한 것으로써 특히 PECVD장치의 기판 예열부를 개선한 것에 관한 것이다.본 발명의 PECVD장치는 다수의 프로세스 챔버와, 다수의 기판을 적층하고 있는 카세트가 위치하는 로드락 챔버와, 상기 로드락 챔버로부터 각각의 프로세스 챔버로 기판을 이송하기 위한 트랜스퍼 챔버를 구비하여 구성된다.상기 프로세스 챔버는 박막이 증착되는 기판과, 상기 기판이 안착되고 기판에 박막을 형성하기 위한 전계를 인가하기 위한 일측의 전극으로 작용하는 서셉터와, 상기 서셉터가
박막이 형성될 기판이 대기하는 로드락 챔버;기판에 박막 형성공정을 진행하고 기판의 예열 공정을 실시할 수 있는 다수의 프로세스 챔버;상기 로드락 챔버와 프로세스 챔버 사이로 기판을 이송하는 로봇 암을 구비하는 트랜스퍼 챔버를 포함하여 형성되는 것을 특징으로 하는 PECVD장치.
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