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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-1999-0042610 (1999-10-04) |
공개번호 | 10-2001-0035847 (2001-05-07) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019990042610 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 반도체 제조 공정에 사용되는 습식식각 시스템에 관한 것으로, 습식식각 시스템은 약액이 수용되고, 웨이퍼가 로딩되어 습식식각 공정이 수행되는 습식공정조와, 이 습식공정조의 사용시간별 약액농도변화를 검출하는 농도측정 센서와, 이 농도측정 센서로부터 검출된 측정값을 입력받아 제어신호를 발생하는 제어부와, 이 제어부로부터 발생되는 제어신호에 따라 습식공정조로 공급 라인을 통해 약액을 공급하는 약액공급부 및 공급 라인상에 설치되고 공급 라인으로 흐르는 약액의 유량을 검출하여, 습식공정조로 약액이 정상적으로 공급되고 있는지를 확인하
약액이 수용되고, 웨이퍼가 로딩되어 습식식각 공정이 수행되는 습식공정조(50)와;상기 습식공정조(50)의 사용시간별 약액농도변화를 검출하는 농도측정 센서(72)와;상기 농도측정 센서(72)로부터 검출된 측정값을 입력받아 제어신호를 발생하는 제어부(70)와;상기 제어부(70)로부터 발생되는 제어신호에 따라 상기 습식공정조(50)로 공급 라인을 통해 약액을 공급하는 약액공급부(80) 및; 상기 공급 라인상에 설치되고 상기 공급 라인으로 흐르는 약액의 유량을 검출하여, 상기 습식공정조로 약액이 정상적으로 공급되고 있는지를 확인하기 위한
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