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| 국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-1999-0067759 (1999-12-31) |
| 공개번호 | 10-2001-0066172 (2001-07-11) |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1019990067759 |
| 발명자 / 주소 | |
| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (2004-06-04) |
| 심사진행상태 | 거절결정(일반) |
| 법적상태 | 거절 |
본 발명은 개방순환 냉각수계에서 발생할 수 있는 부식과 미생물 슬라임 형성을 동시에 억제하기 위한 수처리제 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 0.05 내지 14 %의 이소티아졸리논, 오르토포스페이트 이온을 기준으로 0.5 내지 50 %의 인산염, 아연 이온을 기준으로 0.05 내지 20 %의 아연염, 오르가닉 포스포네이트 이온 기준으로 0.1 내지 50 %의 포스포네이트의 조성비를 갖는 수처리제 조성물에 관한 발명이며, 본 발명에 따른 조성물은 지속살균력을 갖추고 있어 모든 미생물에 살균효과가 우수하고, 금속표면에서 발생할
금속의 부식 및 미생물 슬라임 발생을 억제하기 위한 수처리제 조성물에 있어서, 하기의 화학식 1의 이소티아졸리논, 정인산염, 아연염 및 포스포네이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 부식 및 미생물 억제용 수처리제 조성물:[화학식 1] 상기 화학식 1에서 R은 수소 또는 염소이다.
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