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[한국특허] 초크랄스키 결정성장 로의 고속인상용 핫존 구조 결정방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C30B-015/00
출원번호 10-2000-0007075 (2000-02-15)
공개번호 10-2001-0081470 (2001-08-29)
등록번호 10-0571570-0000 (2006-04-10)
DOI http://doi.org/10.8080/1020000007075
발명자 / 주소
  • 왕종회 / 인천광역시동구송현동동부아파트*동****호
  • 오현정 / 대구광역시남구대명*동****-*
출원인 / 주소
  • 주식회사 실트론 / 경북 구미시 임수동 ***번지
대리인 / 주소
  • 유미특허법인; 송만호 (YOU ME Patent & Law Firm)
  • 서울특별시 강남구 역삼동 ***-** 서림빌딩**층(유미특허법인); 서울 강남구 역삼동 ***-** 서림빌딩**층(유미특허법인)
심사청구여부 있음 (2004-01-15)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 소멸

초록

본 발명은 초크랄스키 결정성장 로의 고속인상용 핫존 구조 결정방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 핫존 구조 결정방법은, 초크랄스키 결정성장 로 내의 핫존 구조 및 인상속도를 정하고, 정해진 핫존 구조 및 인상속도에 대해 결정성장 중의 열 전달 현상을 해석하는 전산모사를 수행하는 제 1 단계; 전산모사의 결과로부터 실리콘 용융액과 실리콘 잉곳의 계면 근처의 실리콘 잉곳 중심에서 축 방향 온도구배 Gc를 구한 후, V/Gc 값을 구하는 제 2 단계; 인상속도 V를 변화시키면서 제 1 단계 및 제 2 단계를 수행하여 V/Gc 값을 구한

대표청구항

초크랄스키 결정성장 로 내의 핫존 구조 및 인상속도를 정하고, 상기 정해진 핫존 구조 및 인상속도에 대해 결정성장 중의 열 전달 현상을 해석하는 전산모사를 수행하는 제 1 단계;상기 전산모사의 결과로부터 실리콘 용융액과 실리콘 잉곳의 계면 근처의 실리콘 잉곳 중심에서 축 방향 온도구배 Gc를 구한 후, V/Gc 값을 구하는 제 2 단계; 상기 인상속도 V를 변화시키면서 상기 제 1 단계 및 제 2 단계를 수행하여 V/Gc 값을 구한 다음, 인상속도 V에 대한 V/Gc 값의 그래프를 그리는 제 3 단계;상기 그래프에서 V/Gc 값이

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  1. [한국] 핫존로에서의 인상 속도프로파일을 조절하여 단결정 실리콘 잉곳 및 웨이퍼를 제조하는 방법, 그에 따라 제조된 잉곳 및 웨이퍼 | 박재근, 이곤섭, 조규철

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