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[한국특허] 무결함 실리콘 단결정 성장 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C30B-015/22
출원번호 10-2000-0055759 (2000-09-22)
공개번호 10-2002-0023043 (2002-03-28)
등록번호 10-0375516-0000 (2003-02-26)
DOI http://doi.org/10.8080/1020000055759
발명자 / 주소
  • 오현정 / 대구광역시남구대명*동****-*
  • 왕종회 / 충청남도천안시성성동***우성아파트***동***호
출원인 / 주소
  • 주식회사 실트론 / 경북 구미시 임수동 ***번지
대리인 / 주소
  • 유미특허법인 (YOU ME Patent & Law Firm)
  • 서울특별시 강남구 역삼동 ***-** 서림빌딩**층(유미특허법인)
심사청구여부 있음 (2000-09-22)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 소멸

초록

본 발명은 무결함 실리콘 단결정을 성장시키는 방법에 관한 것으로, 실리콘 단결정 내의 점결함 농도 분포를 해석하여 실리콘 단결정의 품질을 평가하고, 이러한 이론적 해석을 통해 내부에 점결함은 포함되지만 COP, OiSF, LDP와 같은 결정결함은 없는 무결함 실리콘 단결정을 성장시키도록 초크랄스키 로의 핫존 구조를 결정하고, 무결함 실리콘 단결정 성장이 가능한 것으로 선택된 핫존 구조를 채용한 초크랄스키 로에서 무결함 실리콘 단결정을 성장시킴으로써, 핫존 구조 결정에 따른 실패비용이 감소하고 무결함 실리콘 웨이퍼의 생산성이 향상되는

대표청구항

실리콘 단결정 내의 점결함 농도 분포가 균일하도록, 열실드의 모양, 열실드 하면으로부터 실리콘 용융액 표면까지의 거리, 그리고 히터의 최상면으로부터 실리콘 용융액 표면까지의 거리를 포함한 핫존 구조물의 3차원적인 배열을 변경함으로써 무결함(defect free) 실리콘 단결정을 성장시키는 초크랄스키 로의 핫존 구조 설계방법.

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. [한국] 6반도체 잉곳 성장시 시드결정의 인상속도 최적화방법, 이를 적용한 반도체 잉곳 성장방법, 그에 따라 성장된 반도체 잉곳과반도체 웨이퍼 및 반도체장치 | 박재근, 이곤섭, 조규철

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. [한국] 실리콘 단결정 잉곳 및 그로부터 제조된 실리콘 웨이퍼 | 조현정
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