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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2000-0078169 (2000-12-19) |
공개번호 | 10-2002-0049086 (2002-06-26) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020000078169 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2000-12-19) |
심사진행상태 | 거절결정(일반) |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 양단에 플랜지(11)를 구비하는 이중관 구조이고, 내측관의 외주면에 복수의 통기구(10a)가 형성되는 몸체(10); 상기 몸체(10) 내부로 부식 방지용 질소 가스를 투입하도록 외측관 상에 장착되는 니플(12); 상기 몸체(10) 내부를 가온하도록 그 동심축 상에 설치되고, 외부의 터미널(21)로 전원을 공급받는 히터(20); 및 상기 몸체(10) 내부의 온도를 검출하여 소정의 신호를 발생하도록 구비되는 온도센서(22)를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.이에 따라, 진공배관 내부에 스케일이 발생하지 않도록 하
양단에 플랜지(11)를 구비하는 이중관 구조이고, 내측관의 외주면에 복수의 통기구(10a)가 형성되는 몸체(10);상기 몸체(10) 내부로 부식방지용 질소 가스를 투입하도록 외측관 상에 장착되는 니플(12);상기 몸체(10) 내부를 가온하도록 그 동심축상에 설치되고, 외부의 터미널(21)로 전원을 공급받는 히터(20); 및상기 몸체(10) 내부의 온도를 검출하여 소정의 신호를 발생하도록 구비되는 온도센서(22)를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 공정 설비용 인라인 진공히터.
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