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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2000-7011162 (2000-10-07) |
공개번호 | 10-2002-0011850 (2002-02-09) |
국제출원번호 | PCT/JP1999/005693 (1999-10-15) |
국제공개번호 | WO2001006559 (2001-01-25) |
번역문제출일자 | 2000-10-07 |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020007011162 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2004-10-15) |
심사진행상태 | 거절결정(일반) |
법적상태 | 거절 |
본 발명의 목적은 가볍고, 열 응답 키네틱스가 뛰어나고 프로브 카드로 가압시 뒤틀리지 않으며, 따라서 실리콘 웨이퍼의 손상 및 측정 에러에 대하여 효과적으로 자신을 방어하는 웨이퍼 프로버를 제공하는 것이다.본 발명은 웨이퍼 프로버에 관한 것으로서 세라믹 기판에는 그 표면상에 컨덕터층이 형성된다.
세라믹 기판 및 상기 기판 표면상에 형성된 컨덕터층을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 프로버.제 1 항에 있어서,상기 컨덕터층은 처크 최상위 컨덕터층인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 프로버.제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 세라믹 기판에는 온도 제어 수단이 장착되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 프로버.제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한 항에 있어서,상기 세라믹 기판은 질화 세라믹, 탄화 세라믹, 및 산화 세라믹으로 필수 구성되는 그룹으로부터 선택된 한 개 이상의 부재로 구성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 프로버.제 1 항 내
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