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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2001-0003135 (2001-01-19) |
공개번호 | 10-2002-0011852 (2002-02-09) |
등록번호 | 10-0516891-0000 (2005-09-15) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020010003135 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2003-02-19) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
실리콘 웨이퍼와 실리콘 웨이퍼 상의 배선재료에 대한 부식 등의 악영향을 끼치지 않고, 미생물의 발생을 억제함과 동시에, 콜로이드 입자의 입경안정성이 우수하여 보존안정성이 높고, 장기간 연속하여 사용할 수 있는 콜로이드상 실리카 슬러리를 제공한다. 콜로이드상 실리카에 5∼100ppm의 과산화수소를 첨가하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 콜로이드상 실리카 슬러리이다.
5∼100ppm의 과산화수소가 첨가된 콜로이드상 실리카 슬러리.
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