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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0761043 (2001-01-15) |
우선권정보 | JP-0236454 (2000-08-04) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 5 인용 특허 : 6 |
The present invention provides the colloidal silica slurry which does not have a bad influence, such as corrosion, to a silicon wafer and wiring material on a silicon wafer and inhibits growth of microbes, and whereof preserving stability is high because stability of particle diameters of a colloida
1. The colloid silica slurry wherein it does not have a bad influence, such as corrosion, to a silicon wafer and wiring material on a silicon wafer and inhibits growth of microbes, and whereof preserving stability is high because stability of a particle diameters of colloidal particle is superior an
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