[특허]니켈 정량 분석 방법

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IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)	G01N-009/36
출원번호	10-2001-0088450 (2001-12-29)
공개번호	10-2003-0058064 (2003-07-07)
등록번호	10-0413497-0000 (2003-12-18)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020010088450
발명자 / 주소	김빈 / 서울특별시양천구신정동목동아파트*- 권현자 / 경기도안양시동안구비산동*-샛별아파트*- 박규호 / 경기도성남시분당구구미동무지개대림아파트-***
출원인 / 주소	엘지디스플레이 주식회사 / 서울 영등포구 여의도동 **번지
대리인 / 주소	심창섭; 김용인 (SHIM, Chang Sup) 서울 강남구 역삼동 - 여삼빌딩 층(특허법률사무소); 서울 강남구 역삼동 *- 여삼빌딩 층(*특허법률사무소)
심사청구여부	있음 (2001-12-29)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	소멸

초록 ▼

본 발명은 식각액을 사용하여 증착된 니켈을 분리하여 ED-XRF 분석으로 원자 평면 밀도와 두께를 측정하는 니켈 정량 분석 방법에 관한 것으로, 기판을 준비하는 단계와, 상기 기판에 절연막과 비정질 실리콘을 형성하는 단계와, 상기 비정질 실리콘 상에 니켈을 증착하는 단계와, 상기 니켈을 식각액으로 식각하는 단계와, 상기 식각된 시료를 AP1 필름에 떨어뜨리고 건조시키는 단계와, 상기 건조된 시료를 ED-XRF로 분석하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하고 또한, 기판을 준비하는 단계와, 상기 기판에 AP1 필름을 설치하

대표청구항

기판을 준비하는 단계와, 상기 기판에 절연막과 비정질 실리콘을 형성하는 단계와,상기 비정질 실리콘 상에 니켈을 증착하는 단계와,상기 니켈을 식각액으로 식각하는 단계와,상기 식각된 시료를 AP1 필름에 떨어뜨리고 건조시키는 단계와,상기 건조된 시료를 ED-XRF로 분석하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 니켈 정량 분석 방법.

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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