IPC분류정보
국가/구분 |
한국(KR)/등록특허
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 |
10-2001-7016150
(2001-12-15)
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공개번호 |
10-2002-0070393
(2002-09-09)
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등록번호 |
10-0790500-0000
(2007-12-24)
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국제출원번호 |
PCT/US2000/041637
(2000-10-27)
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국제공개번호 |
WO2001079936
(2001-10-25)
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번역문제출일자 |
2001-12-15
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DOI |
http://doi.org/10.8080/1020017016150
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발명자
/ 주소 |
- 델푸에르토,샌티에고,이.
/ 미국*****뉴욕주밀턴라일리에레인**
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출원인 / 주소 |
- 에이에스엠엘 유에스, 인크. / 미국 ***** 아리조나주 템페 사우스 리버 파크웨이 ****
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대리인 / 주소 |
-
특허법인화우;
백만기;
이중희
(YOON YANG KIM SHIN &YU)
-
서울 서초구 서초동****-* 남강빌딩 **층;
서울 종로구 신문로*가 ***번지 흥국생명빌딩 *층(김.장법률사무소);
서울 종로구 신문로*가 ***번지 흥국생명빌딩 *층(김.장법률사무소)
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심사청구여부 |
있음 (2005-09-20) |
심사진행상태 |
등록결정(일반) |
법적상태 |
소멸 |
초록
▼
방출가스들이 진공상태 리소그래피 시스템(100)의 투영 광학계를 오염시키는 것을 방지하는 창(窓)없는 시스템 및 장치가 제공된다. 방출가스 완화 장치(124)는 한쪽 단부가 거의 막힌 굴뚝(304), 굴뚝에 유동성(fluidly) 있게 연결된 덕트, 및 굴뚝내에 배치된 배플(602)을 구비한다. 방출가스 완화 장치의 굴뚝은 한쪽 단부가 거의 막힌 깔때기 형상(402)이다. 상기 굴뚝의 단부는 광의 빔 또는 묶음이 굴뚝을 통과하는 것을 허용하는 개구를 갖는다. 광의 통과를 위한 적어도 하나의 개구를 갖는,
방출가스들이 진공상태 리소그래피 시스템(100)의 투영 광학계를 오염시키는 것을 방지하는 창(窓)없는 시스템 및 장치가 제공된다. 방출가스 완화 장치(124)는 한쪽 단부가 거의 막힌 굴뚝(304), 굴뚝에 유동성(fluidly) 있게 연결된 덕트, 및 굴뚝내에 배치된 배플(602)을 구비한다. 방출가스 완화 장치의 굴뚝은 한쪽 단부가 거의 막힌 깔때기 형상(402)이다. 상기 굴뚝의 단부는 광의 빔 또는 묶음이 굴뚝을 통과하는 것을 허용하는 개구를 갖는다. 광의 통과를 위한 적어도 하나의 개구를 갖는, 회전식 장벽(902)은, 굴뚝 근방에 설치될 수 있으므로, 상기 회전식 장벽은 회전식 장벽의 개구들 중 하나의 개구가 굴뚝 근처를 통과할 때를 제외하고는 굴뚝의 열린 단부를 거의 막는다. 상기 회전식 장벽은, 냉각 장치(906)에 의해 냉각될 수 있고, 그 냉각 장치는 회전식 장벽의 일부분에 방사적(radiantly)으로 결합되어 있다. 장벽을 회전시키는데 모터(904)를 이용한다. 광원 동기화 모듈(910)은, 회전식 장벽의 개구들이 방출가스 완화 장치의 굴뚝과 정렬되어 있는 동안 펄스 광원을 트리거하는데 이용된다. 또한, 장벽 가스(910) 시스템은 장벽 가스를 굴뚝으로 주입하는데 이용될 수 있다.
대표청구항
▼
포토레지스트 방출가스 완화 장치로서,굴뚝;상기 굴뚝에 유동성 있게(fluidly) 연결되는 덕트; 및상기 굴뚝내에 배치되는 배플을 포함하는 장치.제1항에 있어서, 상기 덕트는인입개구(inlet opening); 및적어도 하나의 배출 개구(discharge opening)를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.제1항에 있어서, 상기 배플은 광의 통과를 위한 컷아웃들(cutouts)을 갖는 복수의 배플 플레이트들을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.제1항에 있어서, 상기 굴뚝은 단면을 갖는 한 묶음(bundle)의 광의 통과를 위해 제1
포토레지스트 방출가스 완화 장치로서,굴뚝;상기 굴뚝에 유동성 있게(fluidly) 연결되는 덕트; 및상기 굴뚝내에 배치되는 배플을 포함하는 장치.제1항에 있어서, 상기 덕트는인입개구(inlet opening); 및적어도 하나의 배출 개구(discharge opening)를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.제1항에 있어서, 상기 배플은 광의 통과를 위한 컷아웃들(cutouts)을 갖는 복수의 배플 플레이트들을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.제1항에 있어서, 상기 굴뚝은 단면을 갖는 한 묶음(bundle)의 광의 통과를 위해 제1 단부에서 개구를 갖고, 상기 개구의 형상은 상기 단면의 형상과 거의 일치하는 것을 특징으로 하는 장치.제4항에 있어서, 상기 한 묶음의 광의 통과를 위한 적어도 하나의 개구를 갖는 회전식 장벽을 더 갖고, 상기 회전식 장벽이 상기 굴뚝 근방에 위치하여, 상기 회전식 장벽의 상기 개구들 중 하나의 개구가 상기 굴뚝의 제2 단부를 통과할 때를 제외하고는, 상기 회전식 장벽이 상기 굴뚝의 상기 제2 단부를 거의 막는 것을 특징으로 하는 장치.제5항에 있어서, 상기 회전식 장벽에 방사적으로 결합되어 있는 냉각 장치를 더 포함하는 장치. 제6항에 있어서, 상기 회전식 장벽에 연결되어 있는 모터를 더 포함하는 장치.제7항에 있어서, 상기 모터는 자기 베어링을 갖는 것을 특징으로 하는 장치.제7항에 있어서, 펄스 광원의 트리거링을 상기 굴뚝의 상기 제2 단부 근처에상기 회전식 장벽의 상기 개구들이 통과하는 것과 동기시키는 광원 동기화 모듈을 더 포함하는 장치.제9항에 있어서, 상기 굴뚝의 상기 제2 단부에 대한 상기 개구들의 위치를 결정하는 센서 모듈을 더 포함하는 장치.제4항에 있어서, 상기 배플은 상기 굴뚝으로부터 열적으로 절연되는 것을 특징으로 하는 장치.제11항에 있어서, 상기 배플은 냉각되는 것을 특징으로 하는 장치.제12항에 있어서, 상기 덕트는, 상기 배플 및 상기 회전식 장벽의 온도보다 더 고온으로 유지되도록 가열되는 것을 특징으로 하는 장치.제4항에 있어서, 상기 굴뚝에 연결되며, 상기 굴뚝에 장벽 가스를 주입하기 위한 장벽 가스 시스템을 더 포함하는 장치.제14항에 있어서, 상기 장벽 가스는 아르곤을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.포토레지스트 방출가스 완화 시스템으로서,굴뚝을 갖는 방출가스 완화 장치;상기 굴뚝내에 배치되는 배플;광의 통과를 위한 적어도 하나의 개구를 갖는 회전식 장벽; 및상기 회전식 장벽을 냉각하기 위해 상기 회전식 장벽에 방사적으로 결합되어 있는 냉각 장치를 구비하고,상기 회전식 장벽은 상기 굴뚝 근방에 위치하여, 상기 회전식 장벽의 상기 개구들 중 하나의 개구가 상기 굴뚝의 단부를 통과할 때를 제외하고는, 상기 회전식 장벽이 상기 굴뚝의 상기 단부를 거의 막는 것을 특징으로 하는 시스템.제16항에 있어서, 상기 회전식 장벽의 상기 개구들 중 하나의 개구가 상기 굴뚝의 상기 단부 근처를 통과할 때를 결정하는 센서; 및상기 센서로부터 신호를 수신하고 펄스 광원을 트리거하는 광원 동기화 모듈을 더 포함하는 시스템.제17항에 있어서, 상기 회전식 장벽에 연결되어 있는 모터를 더 포함하는 시스템.제18항에 있어서, 상기 굴뚝에 연결되며, 상기 굴뚝에 장벽 가스를 주입하기 위한 장벽 가스 시스템을 더 포함하는 시스템.제19항에 있어서, 상기 장벽 가스는 아르곤을 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.진공상태 리소그래피 시스템에서 포토레지스트 방출가스를 완화시키는 방법으로서,(1) 격벽을 이용하여 진공실을 제1 및 제2 압력대로 분리하는 단계;(2) 상기 리소그래피 시스템의 투영 광학계를 제1 압력대에 설치하고, 상기 리소그래피 시스템의 웨이퍼 스테이지를 제2 압력대에 배치하는 단계;(3) 상기 제1 압력대와 제2 압력대간의 압력차를 생성하는 단계;(4) 굴뚝 및 배플을 갖는 방출가스 완화 장치를 상기 격벽에 연결하는 단계; 및(5) 상기 제1 압력대로부터 상기 제2 압력대로의 가스들의 흐름을 확립하는 단계를 포함하고,상기 가스들은 상기 제1 압력대로부터 상기 제2 압력대로 상기 방출가스 완화 장치를 통해 흐르는 것을 특징으로 하는 방법.제21항에 있어서, (6) 상기 굴뚝으로부터 상기 제1 압력대를 향해 이동하는 방출가스 분자들을 회전식 장벽으로 차단하는 단계를 더 포함하는 방법.제22항에 있어서, (7) 상기 회전식 장벽을 냉각하는 단계를 더 포함하는 방법.제23항에 있어서, (8) 상기 배플을 냉각하는 단계를 더 포함하는 방법.제24항에 있어서, (9) 상기 굴뚝의 깔때기 형상부에 장벽 가스를 주입하는 단계를 더 포함하는 방법.<
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