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| 국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2002-0027822 (2002-05-20) |
| 공개번호 | 10-2003-0089911 (2003-11-28) |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020020027822 |
| 발명자 / 주소 | |
| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
| 법적상태 | 취하 |
오버레이 측정 및 초점 확인을 동시에 수행하기 위한 포토 마크가 개시되어 있다. 상기 포토 마크는 반도체 웨이퍼의 스크라이브 영역에 구비되고, 각 변들이 하나의 라인으로 이루어지는 직사각형 형상의 어미자와, 상기 어미자 내부에, 동일한 라인들이 일정 간격으로 이격되어 배치되고, 상기 라인들 및 라인 간의 간격들은 직사각형의 각 변들이 되도록 배열되어진 직사각형 형상의 아들자를 포함한다. 상기 포토 마크를 사용하여, 광학적으로 오버레이 측정 및 초점 확인을 동시에 수행할 수 있다.
반도체 웨이퍼의 스크라이브 영역에 구비되고, 각 변들이 하나의 라인으로 이루어지는 직사각형 형상의 어미자; 및상기 어미자 내부에, 동일한 라인들이 일정 간격으로 이격되어 배치되고, 상기 라인들 및 라인 간의 간격들은 직사각형의 각 변들이 되도록 배열되어진 직사각형 형상의 아들자를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토 마크.
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