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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2002-0047089 (2002-08-09) |
공개번호 | 10-2004-0013938 (2004-02-14) |
등록번호 | 10-0454105-0000 (2004-10-13) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020020047089 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2002-08-09) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 일반적으로 LiNbO3 웨이퍼를 이용하여 광도파로를 제조한 후 수행되는 화학 기계적 연마에 관한 것으로, 특히 광도파로의 단일 칩 연마에 관한 것이다. 세부적으로는, 연마면의 개선을 가능하게 하는 연마 소자의 고정지그 및 연마를 위한 홀더의 제작에 관한 것이다.
광도파로 소자를 고정하는 지그에 있어서,지그몸체(101);상기 지그몸체 내부에 위치한 받침대(104);상기 받침대 상부에 접촉한 광도파 소자(102);상기 광도파소자 상부에 접촉한 더미샘플(103);상기 더미샘플 상부에 접촉한 지지대(105);상기 지지대 상부에 위치하고 지그몸체의 양쪽 홈에 맞물려있는 고정대(106); 및상기 고정대의 중심을 관통하며 지지대, 더미샘플, 광도파로소자, 받침대를 밀착시키기 위하여 지지대에 연결된 고정대 나사(107)로 구성된 것을 특징으로 하는 LiNbO3 광도파로 소자 연마를 위한 지그.
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