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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2003-0082488 (2003-11-20) |
공개번호 | 10-2005-0048776 (2005-05-25) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020030082488 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2008-10-28) |
심사진행상태 | 거절결정(일반) |
법적상태 | 거절 |
본 발명은, 박막트랜지스터 기판의 전극 패턴 형성방법에 관한 것이다. 본 발명의 전극 패턴 형성방법은 기판 상에 알루미늄과 니켈을 포함하는 합금층을 증착 형성하는 단계; 상기 합금층 위에 상기 합금층의 에칭에 사용되는 에칭용액에 에칭되지 않는 금속층을 증착 형성하는 단계; 상기 금속층 위에 감광액을 도포하고 감광액 패턴을 형성하는 단계; 상기 감광액 패턴을 마스크로 하여 상기 금속층을 에칭하여 상기 금속층의 패턴을 형성하는 단계; 상기 금속층의 패턴을 마스크로 하여 상기 합금층을 에칭하는 단계; 상기 합금층의 에칭 후에 상기 금속의
박막트랜지스터 기판의 전극 패턴 형성방법에 있어서, 기판 상에 알루미늄과 니켈을 포함하는 합금층을 증착 형성하는 단계; 상기 합금층 위에 상기 합금층의 에칭에 사용되는 에칭용액에 에칭되지 않는 금속층을 증착 형성하는 단계; 상기 금속층 위에 감광액을 도포하고 감광액 패턴을 형성하는 단계; 상기 감광액 패턴을 마스크로 하여 상기 금속층을 에칭하여 상기 금속층의 패턴을 형성하는 단계; 상기 금속층의 패턴
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