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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2003-0087621 (2003-12-04) |
공개번호 | 10-2005-0054270 (2005-06-10) |
등록번호 | 10-1070170-0000 (2011-09-28) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020030087621 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2008-12-03) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명에 따른 언더범프메탈에 대한 에칭 용액은 황산 40 내지 80 중량%, 무기산 0.1 내지 10 중량%, NO3- 함유 첨가제 0.1 내지 5 중량% 및 잔량의 물을 함유한다.본 발명에 따른 에칭 용액을 사용하면 니켈로 이루어진 언더범프메탈을 에칭할수 있으며, 아울러 에칭 용액에 기인한 금속의 오염을 방지하여 최종 수득되는 반도체의 수율 저하를 막을 수 있다.
황산 45 내지 70 중량%, 질산 1 내지 5 중량%, NO3- 함유 첨가제 0.1 내지 0.5 중량% 및 잔량의 물을 함유하는 니켈 에칭 용액.
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