[특허]산화세륨 연마제를 이용한 화학 기계적 연마 슬러리 조성물

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[한국특허] 산화세륨 연마제를 이용한 화학 기계적 연마 슬러리 조성물 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC9판)	C09K-003/14
출원번호	10-2004-0050515 (2004-06-30)
공개번호	10-2005-0004051 (2005-01-12)
등록번호	10-1053653-0000 (2011-07-27)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020040050515
발명자 / 주소	박종대 / 경기도 화성시 양감면 요당리 **- 공현구 / 경기도 화성군 양감면 요당리 **- 이봉상 / 경기도 화성군 양감면 요당리 **- 박준홍 / 경기도 화성군 양감면 요당리 **-
출원인 / 주소	주식회사 동진쎄미켐 / 인천 서구 가좌동 **-
대리인 / 주소	이상헌
심사청구여부	있음 (2009-03-19)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	등록

초록 ▼

반도체 다층구조를 형성하기 위한 STI(Shallow Trench Isolation) 공정의 화학 기계적 연마(Chemical Mechanical Polishing: CMP) 공정에 특히 유용하고, 미세 스크래치의 발생을 최소화하며, 산화막과 질화막의 연마 선택비가 높은 화학 기계적 연마 슬러리 조성물이 개시된다.상기 슬러리 조성물은 산화세륨 연마제, 카르복실산 또는 그 염, 알코올계 화합물, 및 물을 포함하며, 전체 슬러리 조성물에 대하여 상기 산화세륨 연마제의 함량은 0.1 내지 20중량%이고, 상기 카르복실산 또는 그 염의 함

대표청구항

산화세륨 연마제;카르복실산 또는 그 염;알코올계 화합물; 및물을 포함하며,상기 알코올계 화합물은 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 펜탄올, 폴리에틸렌글리콜, 자이리톨, 트리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 2-아미노-1-부탄올, 네오펜틸 글리콜 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 화학 기계적 연마 슬러리 조성물.

발명자의 다른 특허 :

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[한국] 산화물 ＣＭＰ용 조성물 | 그로버, 고탐, 에스., 뮐러, 브라이언, 엘., 왕,슈민
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[한국] ＣＭＰ 연마제, ＣＭＰ 연마제용 첨가액 및 기판의 연마방법 | 아까호리,도시히꼬, 아시자와,도라노스께, 히라이,게조, 구리하라,미호, 요시다,마사또, 구라따,야스시
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[한국] ＣＭＰ 슬러리 및 이를 이용한 반도체 웨이퍼의 연마 방법 | 조승범, 김종필, 노준석, 오명환, 김장열
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[한국] 반도체 소자의 ＣＭＰ 향상 방법 | 김명식
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[한국] ＣＭＰ 슬러리 및 이를 이용한 연마 방법 | 김종필, 조승범, 노준석, 김장열
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특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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