초록 ▼

본 발명은 표면처리용 액상 표면 조정제 및 그 제조방법에 관한 것으로, 티탄 이온 및 콜로이드의 출발물질인 티타늄 부톡사이드(TITANIUM(IV) BUTOXIDE), 티타늄 에톡사이드(TITANIUM(IV) ETHOXIDE), 티타늄 플로라이드(TITANIUM(IV) FLUORIDE), 헥사플로로 티타닉 엑시드(HEXAFLUORO TITANIC ACID), 티타늄 프로폭사이드(TITANIUM(IV) PROPOXIDE), 티타늄 설파이드(TITANIUM(IV) SULFIDE), 티타늄 클로라이드(TITANIUM(IV) CHLORID

본 발명은 표면처리용 액상 표면 조정제 및 그 제조방법에 관한 것으로, 티탄 이온 및 콜로이드의 출발물질인 티타늄 부톡사이드(TITANIUM(IV) BUTOXIDE), 티타늄 에톡사이드(TITANIUM(IV) ETHOXIDE), 티타늄 플로라이드(TITANIUM(IV) FLUORIDE), 헥사플로로 티타닉 엑시드(HEXAFLUORO TITANIC ACID), 티타늄 프로폭사이드(TITANIUM(IV) PROPOXIDE), 티타늄 설파이드(TITANIUM(IV) SULFIDE), 티타늄 클로라이드(TITANIUM(IV) CHLORIDE)로 구성된 군으로 부터 선택된 하나 이상의 물질 0.01 내지 10 중량%와, 가수분해억제제 0.1 내지 5 중량%와, 인산염 화합물 5 내지 30 중량%와, 분산제 0.01 내지 2 중량%, 반응 촉진제 0.1 내지 2 중량%, PH 조절용 알칼리염류 5 내지 30 중량% 및 용매인 물 50 내지 99 중량%를 포함하는 혼합물을 졸-겔법을 이용하여 합성되는 표면처리용 액상 표면 조정제 및 그 제조방법을 기술적 요지로 한다. 이에 따라, 졸-겔법에 의한 나노 크기의 티탄-콜로이드를 합성하는 방식의 액상 표면 조정제를 제조시킴에 의해 작업자의 위험성, 제조공정의 복잡성, 분말 형태에 따른 작업장 내의 유해성 미세 분진 발생 및 생산성 저해 요인으로 작용하는 등의 문제점을 개선하는 이점이 있다.

대표청구항 ▼

티탄 이온 및 콜로이드의 출발물질인 티타늄 부톡사이드(TITANIUM(IV) BUTOXIDE), 티타늄 에톡사이드(TITANIUM(IV) ETHOXIDE), 티타늄 플로라이드(TITANIUM(IV) FLUORIDE), 헥사플로로 티타닉 엑시드(HEXAFLUORO TITANIC ACID), 티타늄 프로폭사이드(TITANIUM(IV) PROPOXIDE), 티타늄 설파이드(TITANIUM(IV) SULFIDE), 티타늄 클로라이드(TITANIUM(IV) CHLORIDE)로 구성된 군으로 부터 선택된 하나 이상의 물질 0.01 내지 10

티탄 이온 및 콜로이드의 출발물질인 티타늄 부톡사이드(TITANIUM(IV) BUTOXIDE), 티타늄 에톡사이드(TITANIUM(IV) ETHOXIDE), 티타늄 플로라이드(TITANIUM(IV) FLUORIDE), 헥사플로로 티타닉 엑시드(HEXAFLUORO TITANIC ACID), 티타늄 프로폭사이드(TITANIUM(IV) PROPOXIDE), 티타늄 설파이드(TITANIUM(IV) SULFIDE), 티타늄 클로라이드(TITANIUM(IV) CHLORIDE)로 구성된 군으로 부터 선택된 하나 이상의 물질 0.01 내지 10 중량%와, 가수분해억제제 0.1 내지 5 중량%와, 인산염 화합물 5 내지 30 중량%와, 분산제 0.01 내지 2 중량%, 반응 촉진제 0.1 내지 2 중량%, PH 조절용 알칼리염류 5 내지 30 중량% 및 용매인 물 50 내지 99 중량%를 포함하는 혼합물을 졸-겔법을 이용하여 합성함을 특징으로 하는 표면처리용 액상 표면 조정제 제조방법.