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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2004-0067323 (2004-08-26) |
공개번호 | 10-2006-0018936 (2006-03-03) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020040067323 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
초음파-에멀젼방법을 이용한 단분산 실리카 나노분말 제조법에 관한 것으로, 특히 초음파장치를 이용한 입자의 파쇄 분산을 동시에 이루는 반응방법으로 단분산 실리카 나노분말 제조법에 관한 것이다. 본 발명은 초음파 발생장치인 봉상형 ULTRASONIC DISRUPTOR를 이용하여 출력을 35 W로 고정하고 연속상에 분산상을 천천히 적하시켜 에멀젼으로 제조하는데, 이 때 초음파가 용액 전체에 영향을 미치도록 자기교반기 위에 마그네틱 막대로 회전시키면서 제조하였다. 제조된 에멀젼을 탄화수소 암모늄 수용액에 적하시켜
Utrasonic disruptor를 사용하여 sodium silicate와 증류수의 부피 비인 1:1로 고정하고, 연속상은 계면활성제의 량을 1~3 vol%로 변화시키면서 혼합시간을 20~60분으로 변화시키면서 제조된 에멀젼을 탄화수소 암모늄 수용액에 적하시켜 용액의 색깔이 흰색이 될 때 까지 약 30분간 반응시켜 Na+ 이온을 제거하고, 에멀젼 파괴를 위하여 질산으로 pH를 3으로 조절한 수 다시 중성화시키기 위하여 암모니아수로 pH 6으로 조절하였다. 상기와 같은 제조공정으로 제조된 실리카 분말을 여과한 후, 잔여물을 제거하기
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