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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2004-0075732 (2004-09-22) |
공개번호 | 10-2005-0030559 (2005-03-30) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020040075732 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2009-02-20) |
심사진행상태 | 원결정유지(심사전치) |
법적상태 | 거절 |
페놀계 화합물 및 알데히드를 가압 조건 하에서 110 내지 160 ℃에서 방향족 술폰산 촉매의 존재 하에 반응시키며, 옥살산 및 포름산의 잔류량은 매우 작고, 반응 장치에의 부식 특성이 감소되는, 30 내지 60 %의 오르토 분율을 가지는 페놀 노볼락 수지의 생산 방법이 제공된다.
페놀계 화합물 및 알데히드를 가압 조건 하에서 110 내지 160 ℃의 온도에서 방향족 술폰산 촉매의 존재 하에 반응시키는, 페놀 노볼락 수지의 생산 방법.
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