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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2005-0011283 (2005-02-07) |
공개번호 | 10-2006-0090073 (2006-08-10) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020050011283 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
기판, 감광막 형성 장치 및 감광막 형성 방법이 개시된다. 기판은 플레이트, 회로부 및 감광물질 차단 부재를 포함한다. 플레이트는 유효 영역 및 유효 영역을 감싸는 주변 영역으로 구분되며 회로부는 유효 영역 상에 형성된다. 감광물질 차단 부재는 주변 영역을 덮어 유효 영역에 제공된 감광물질이 주변 영역 상에 코팅되는 것을 차단한다. 따라서, 감광막을 패터닝하여 형성되는 박막 패턴에서 불량의 발생이 감소된다.
유효 영역 및 상기 유효 영역을 감싸는 주변 영역으로 구분된 플레이트; 상기 유효 영역 상에 형성된 회로부; 및 상기 주변 영역을 덮어 상기 유효 영역에 제공된 감광물질이 상기 주변 영역 상에 코팅되는 것을 차단하는 감광물질 차단 부재를 포함하는 기판.
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