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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2005-0036245 (2005-04-29) |
등록번호 | 10-0575847-0000 (2006-04-25) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020050036245 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2005-04-29) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 반도체 및 평판디스플레이 설비의 부산물 포집방법에 관한 것으로, 기판처리를 위한 공정 챔버와 진공장치를 가지는 기판처리장치 및 그 장치를 이용한 기판처리공정을 제공하고, 특히 그 기판이 반도체일 경우에는 반도체 제조장치 및 그 장치를 이용한 반도체 제조방법이며, 그 기판이 평판디스플레이일 경우에는 공정 챔버와 진공장치를 가지는 평판디스플레이 제조장치 및 그 제조방법이다.본 발명은 이를 위해 공정 챔버의 반응가스 유입구를 통해 가스를 유입하는 가스유입부; 상기 공정 챔버에서 일단의 반도체 제조공정이 이루어진 후 잔류하는 반
공정 챔버의 반응가스 유입구를 통해 가스를 유입하는 단계;상기 공정 챔버에서 일단의 기판 제조공정이 이루어진 후 잔류하는 반응분산물을 배출하는 가스배출단계;상기 공정 챔버에서 유입되는 반응부산물을 효과적으로 포집하기 전에 열을 가하여 반응부산물의 고용화를 저하시키는 단계; 일단은 가열부와 연결되는 동시에 타단은 진공펌프와 연결되고, 내부에 저온 플레이트를 이용하여 반응부산물을 포집하는 부산물포집단계; 및상기 반응부산물의 포집 촉진을 위해 포집로의 내부에 냉각제를 주입하는 단계;가 포함됨을 특징으로 하는 반도체 및 평판디스플레이 설비
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