초록 ▼

본 발명은 배기가스 정화 시스템에 관한 것이다. 본 발명에 의한 배기가스 정화 시스템은 반도체 및 디스플레이 공정을 수행하는 공정챔버와, 상기 공정챔버 후단에 위치하며 상기 공정챔버의 공정 후 형성되는 공정 부산물가스를 배기시키는 펌프를 포함한다. 또한, 상기 펌프 앞단에 위치하고 플라즈마가 형성되어 상기 공정부산물의 분해 반응이 일으키는 배기용 플라즈마 리액터는 가스입구 및 가스출구, 상기 가스출구 상부에 위치하며 상기 가스출구와 연결되는 다수의 플라즈마 방전관이 포함된 제2 바디, 상기 다수의 플라즈마 방전관을 둘러싸는 마그네틱

본 발명은 배기가스 정화 시스템에 관한 것이다. 본 발명에 의한 배기가스 정화 시스템은 반도체 및 디스플레이 공정을 수행하는 공정챔버와, 상기 공정챔버 후단에 위치하며 상기 공정챔버의 공정 후 형성되는 공정 부산물가스를 배기시키는 펌프를 포함한다. 또한, 상기 펌프 앞단에 위치하고 플라즈마가 형성되어 상기 공정부산물의 분해 반응이 일으키는 배기용 플라즈마 리액터는 가스입구 및 가스출구, 상기 가스출구 상부에 위치하며 상기 가스출구와 연결되는 다수의 플라즈마 방전관이 포함된 제2 바디, 상기 다수의 플라즈마 방전관을 둘러싸는 마그네틱코어를 포함한 클램핑부 및 상기 클램핑부 상부에 위치하며 가스입구가 체결되는 제1 바디를 포함한다. 본 발명의 배기가스 정화 시스템에 의하면, 배기용 플라즈마 리액터를 포함하는 배기가스 정화시스템은 공정챔버에서 처리된 가스를 높은 분해효율을 갖도록 플라즈마로 처리하는 동시에 펌프 후단에 스크러버를 배치하여 배기용 플라즈마 리액터의 고장시에도 공정챔버의 공정 또는 클리닝을 실시하고 유해가스를 분해하여 배출할 수 있는 배기가스 정화 시스템을 제공한다.

대표청구항 ▼

반도체 및 디스플레이 공정을 수행하는 공정챔버;상기 공정챔버 후단에 위치하며 상기 공정챔버의 공정 후 또는 클리닝 후 형성되는 공정 부산물 가스를 배기시키는 펌프; 및상기 펌프 앞단에 위치하고 플라즈마가 형성되어 상기 공정부산물의 분해 반응이 일으키는 배기용 플라즈마 리액터;를 포함하고,상기 배기용 플라즈마 리액터는,상기 공정 부산물 가스로 점화되는 점화부를 포함하는 제1 바디;상기 제1 바디와 체결되는 가스입구;상기 제1 바디 하부에 연결되고, 상기 가스입구를 통하여 유입되는 공정부산물 가스가 분해되는 반응이 일어나는 다수의 플라

반도체 및 디스플레이 공정을 수행하는 공정챔버;상기 공정챔버 후단에 위치하며 상기 공정챔버의 공정 후 또는 클리닝 후 형성되는 공정 부산물 가스를 배기시키는 펌프; 및상기 펌프 앞단에 위치하고 플라즈마가 형성되어 상기 공정부산물의 분해 반응이 일으키는 배기용 플라즈마 리액터;를 포함하고,상기 배기용 플라즈마 리액터는,상기 공정 부산물 가스로 점화되는 점화부를 포함하는 제1 바디;상기 제1 바디와 체결되는 가스입구;상기 제1 바디 하부에 연결되고, 상기 가스입구를 통하여 유입되는 공정부산물 가스가 분해되는 반응이 일어나는 다수의 플라즈마 방전관;상기 다수의 플라즈마 방전관이 잇닿아 하부의 홀과 연결되도록 형성된 제2 바디;상기 다수의 플라즈마 방전관을 각각 둘러싸는 마그네틱코어를 포함한 클램핑부;상기 제1 바디 외측면에서부터 상기 제1 바디 내측면에 형성되어 수증기 분사홀까지 유로로 형성되고, 굽어진 형상의 유속조절구간이 형성되어 수증기를 공급하는 기화라인;을 포함하고,상기 수증기 분사홀은,상기 제1 바디 내측면에서 상기 가스입구를 중심으로 일측 및 타측에 형성되고, 상기 기화라인을 통해 공급되는 수증기를 분사하는 다수의 홀로 이루어는 것을 특징으로 하는 배기가스 정화 시스템.