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| 국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2005-0116512 (2005-12-01) |
| 공개번호 | 10-2007-0058177 (2007-06-08) |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020050116512 |
| 발명자 / 주소 | |
| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
| 법적상태 | 취하 |
본 발명은 반도체 제조 공정용 클린룸의 온도 제어 시스템에 관한 것이다. 온도 제어 시스템은 천장 챔버에 복수개가 구비되는 팬 필터 유닛들과, 팬 필터 유닛들 각각의 하단부에 구비되는 패널과, 팬 필터 유닛과 패널을 체결하는 복수개의 지지대 및, 지지대와 패널을 체결하는 복수개의 고정부재를 일체형으로 포함한다. 패널은 팬 필터 유닛으로부터 공급되는 기체를 클린룸 내부 전체로 균일하게 분산시킨다. 본 발명에 의하면, 팬 필터 유닛으로부터 공급되는 기체를 패널을 이용하여 클린룸 내부로 균일하게 분사시킴으로써, 반도체 제조 공정용 클린룸
반도체 제조 공정용 클린룸의 온도 제어 시스템에 있어서:상기 클린 룸의 천장 챔버에 구비되는 다수의 팬 필터 유닛과;상기 팬 필터 유닛들 각각의 하단부에 구비되어 상기 팬 필터 유닛으로부터 공급되는 기체를 상기 클린룸 내부로 균일하게 분산시키는 패널과;상기 팬 필터 유닛과 상기 패널을 체결하고, 상기 패널을 지지하는 다수의 지지대 및;상기 지지대와 상기 패널을 고정시키는 다수의 고정부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 클린룸의 온도 제어 시스템.
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