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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록실용신안 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 20-2007-0007080 (2007-04-30) |
등록번호 | 20-0438683-0000 (2008-02-20) |
DOI | http://doi.org/10.8080/2020070007080 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2007-04-30) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 고안은 반도체 클린룸용 가스상 오염물 제거장치에 있어서, 덕트에 설치되는 가열가습부; 덕트에 설치되는 에어와셔; 상기 가열가습부와 에어와셔 사이에 설치되는 냉각부를 포함하되, 상기 가열가습부는 상기 덕트에 유입되는 공기의 상류측에 위치하며, 상기 에어와셔는 상기 덕트에 유입되는 공기의 하류측에 위치하는 것을 특징으로 한다.상기 에어와셔 전단에 가열가습부와 냉각부를 설치하여 가스상의 오염물질의 제거효율을 높일 수 있는 이점이 있다.
덕트에 설치되는 가열가습부;덕트에 설치되는 에어와셔;상기 가열가습부와 에어와셔 사이에 설치되는 냉각부를 포함하되,상기 가열가습부는 상기 덕트에 유입되는 공기의 상류측에 위치하며,상기 에어와셔는 상기 덕트에 유입되는 공기의 하류측에 위치하는 것을 특징으로 하는 반도체 클린룸용 가스상 오염물 제거장치.
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