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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2005-7009621 (2005-05-27) |
공개번호 | 10-2005-0084009 (2005-08-26) |
등록번호 | 10-1051216-0000 (2011-07-15) |
국제출원번호 | PCT/JP2003/015295 (2003-11-28) |
국제공개번호 | WO2004048304 (2004-06-10) |
번역문제출일자 | 2005-05-27 |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020057009621 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2008-10-22) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 분자 중에서 물분자가 이탈하여 생성된 환상 구조를 갖는 환상 구조 함유 폴리글리세린의 존재 비율이 현저하게 감소된 폴리글리세린 및 계면 활성이 우수한 폴리글리세린 지방산 에스테르에 관한 것이다.글리세린 1 몰에 대하여 글리시돌 2 몰 이상과 촉매 두가지를 순차적으로 첨가하여 반응시키고, 액체 크로마토그래피/질량 분석법에 의한 강도비로 나타낸 폴리글리세린 (1)의 합계:환상 구조 함유 폴리글리세린 (2)의 합계=70 % 이상 30 % 이하(두가지의 합계는 100 중량%)이고, 평균 중합도(n)가 2 이상인 폴리글리세린을 얻
액체 크로마토그래피/질량 분석법에 의한 강도비로 나타낸 분자 중에 1개 이상의 환상 구조를 갖는 환상 구조 함유 폴리글리세린 (2)의 합계에 대한 하기 화학식 I로 표시되는 폴리글리세린 (1)의 합계가 폴리글리세린 (1)의 합계:환상 구조 함유 폴리글리세린 (2)의 합계=70 % 이상:30 % 이하(두가지의 합계는 100 중량%)이고, 평균 중합도(글리세린 잔기의 반복 단위)(n)가 2 이상인 환상 구조 저함유 폴리글리세린의 제조 방법이며, 이때 글리세린 1 몰에 대하여 글리시돌 2 몰 이상과 촉매의 두가지를 순차적으로 첨가하여 반
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