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연합인증

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스퍼터링 타겟 및 그 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-021/203
출원번호 10-2006-0011675 (2006-02-07)
공개번호 10-2006-0119735 (2006-11-24)
DOI http://doi.org/10.8080/1020060011675
발명자 / 주소
  • 토시오 모리모토 / 일본국 카나가와켄 야마토시 시모쑤루마 ****번지 스미토모긴조쿠고잔 가부시키가이샤 사가미 플랜트 타겟 머테리얼디파트먼트 일렉트로닉 디비젼 내
  • 마사카주 아치키타 / 일본국 카나가와켄 야마토시 시모쑤루마 ****번지 스미토모긴조쿠고잔 가부시키가이샤 사가미 플랜트 타겟 머테리얼디파트먼트 일렉트로닉 디비젼 내
  • 히로유키 와타나베 / 일본국 카나가와켄 야마토시 시모쑤루마 ****번지 스미토모긴조쿠고잔 가부시키가이샤 사가미 플랜트 타겟 머테리얼디파트먼트 일렉트로닉 디비젼 내
출원인 / 주소
  • 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 / 일본 도쿄도 미나토쿠 신바시 *초메 **-*
대리인 / 주소
  • 박희규 (PARK, Hee Gyu)
  • 서울 강남구 역삼*동 ***-* 뉴서울빌딩 ***호
심사진행상태 취하(심사미청구)
법적상태 취하

초록 ▼

본 발명은 환경오염의 원인이 되는 크롬을 함유하지 않고 입자가 적은 박막을 형성할 수 있는 스퍼터링 타겟을 제공하는 것을 그 목적으로 한다본 발명에 따른 스퍼터링 타겟은 텅스텐(W) 5 내지 30 중량%, 알루미늄(AL) 및 티타늄(TI)의 적어도 1종을 합계로 0.1 내지 10 중량% 함유하고, 함유된 산소량이 0.05 중량% 이하로 되고, 잔부가 실질적으로 니켈(NI)이다. 상기 스퍼터링 타겟에서, 평균 결정 입경의 크기가 100㎛ 이하로 되고, 표면 거칠기 RA가 10㎛ 이하로 됨이 바람직하다. 상기 스퍼터링 타겟을 사용하여

대표청구항

텅스텐(W) 5 내지 30 중량%, 알루미늄(AL) 및 티타늄(TI)의 적어도 1종을 합계로 0.1 내지 10 중량% 함유하고, 함유된 산소량이 0.05 중량% 이하이고, 잔량이 실질적으로 니켈(NI)임을 특징으로 하는 스퍼터링 타겟.

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