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연합인증

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이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

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폴리머 제거제 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • G03F-007/42
출원번호 10-2006-0022156 (2006-03-09)
공개번호 10-2006-0097658 (2006-09-14)
DOI http://doi.org/10.8080/1020060022156
발명자 / 주소
  • 오우거 로버트 엘. / 미국 매사추세츠 ***** 호프데일 존스 로드 **
  • 라초우스키 조셉 에프. / 미국 매사추세츠 ***** 서턴 맨던 로드 ***
출원인 / 주소
  • 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈, 엘.엘.씨. / 미국 매사추세츠 ***** 말보로우 포레스트 스트리트 ***
대리인 / 주소
  • 최규팔; 이은선 (CHOI, Kyu Pal)
  • 서울 강남구 역삼*동 ***-** 한라클래식빌딩 *층(한성국제특허법률사무소); 서울 강남구 역삼*동 ***-** 한라클래식빌딩 *층
심사진행상태 거절결정(일반)
법적상태 거절

초록

기판, 이를테면 전자장치로부터 후기-플라즈마 처리 폴리머 잔류물의 제거에 유용한 조성물이 제공된다. 또한 후기-플라즈마 처리 잔류물을 제거하는 방법과 조성물을 이용한 집적회로의 제조 방법이 제공된다.

대표청구항

A) 플루오라이드 이온원; B) 물; C) 트리할로아세트산, 유기 폴리카르복실산 화합물, 유기 히드록시-카르복실산 화합물 및 아미노산 중에서 선택된 유기산 화합물; 및 임의로 D) 유기 용매를 포함하고, PH가 ≤ 4.5인 조성물.

이 특허를 인용한 특허 (4)

  1. [한국] 접착 폴리머 제거용 조성물 | 권기진, 양진석, 이경호
  2. [한국] 접착 폴리머 제거용 조성물 | 권기진, 양진석, 이경호
  3. [한국] 세정 용액 및 이를 이용한 기판 세정 방법 | 정기현, 신화수, 김상준, 김중현, 최원석
  4. [한국] 반도체 및 디스플레이 제조공정용 세정제 조성물 | 양정열, 송용성
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