선택한 단어 수는 입니다.
최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
선택한 단어 수는 30입니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
출원번호 | 10-2006-0022156 (2006-03-09) |
공개번호 | 10-2006-0097658 (2006-09-14) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020060022156 |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
심사진행상태 | 거절결정(일반) |
법적상태 | 거절 |
기판, 이를테면 전자장치로부터 후기-플라즈마 처리 폴리머 잔류물의 제거에 유용한 조성물이 제공된다. 또한 후기-플라즈마 처리 잔류물을 제거하는 방법과 조성물을 이용한 집적회로의 제조 방법이 제공된다.
A) 플루오라이드 이온원; B) 물; C) 트리할로아세트산, 유기 폴리카르복실산 화합물, 유기 히드록시-카르복실산 화합물 및 아미노산 중에서 선택된 유기산 화합물; 및 임의로 D) 유기 용매를 포함하고, PH가 ≤ 4.5인 조성물.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.