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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2006-0070743 (2006-07-27) |
등록번호 | 10-0776276-0000 (2007-11-07) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020060070743 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2006-07-27) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 에칭 폐액을 확산 투석법 및 용매 추출법을 사용하여 정제함으로써 불순물인 금속 이온과 초산, 질산을 효과적으로 제거하여 고순도의 인산을 제조할 수 있는 방법에 관한 것이다. 상기한 목적을 달성하기 위한 기술구성은, (a) 초산, 질산, 인산과 알루미늄이 함유된 원폐산으로부터 음이온교환막을 이용한 확산 투석을 30 ~ 60℃의 온도 범위에서 상기 음이온교환막의 단위 면적당 원폐산과 물의 유량비를 43㎖/hr·㎡ ~ 523㎖/hr·㎡ 대 130 ~ 654㎖/hr·㎡로 수행하여 알루미늄만을 분리 제거하는 단계; (b) 상기 확
(A) 초산, 질산, 인산과 알루미늄이 함유된 원폐산으로부터 음이온교환막을 이용한 확산 투석을 30 ~ 60℃의 온도 범위에서 상기 음이온교환막의 단위 면적당 원폐산과 물의 유량비를 43㎖/HR·㎡ ~ 523㎖/HR·㎡ 대 130 ~ 654㎖/HR·㎡로 수행하여 알루미늄만을 분리 제거하는 단계;(B) 상기 확산 투석 단계를 통해 회수한 초산, 질산, 인산이 함유된 회수폐산으로부터 알킬포스포닉산(ALKYL-PHOSPHONIC ACIDS), 알킬포스피닉산(ALKYL-PHOSPHINIC ACIDS), 알킬포스핀 옥사이드(ALKYL-PHO
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