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| 국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2006-0076968 (2006-08-16) |
| 등록번호 | 10-0766749-0000 (2007-10-08) |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020060076968 |
| 발명자 / 주소 | |
| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (2006-08-16) |
| 심사진행상태 | 등록결정(일반) |
| 법적상태 | 등록 |
본 발명은 과불화화합물(PFCs) 가스의 대용량 처리장치 및 그 처리방법에 관한 것으로, 반도체·액정·전자회로 제조공정 및 과불화화합물 가스 제조공정 등에서 배출되는 과불화화합물(Perfluoro compounds: PFCs) 배기가스가 예열용 열교환부를 거쳐 공급되고 여기에 조촉매 역할을 하는 수증기가 주입되어 연소부에서 400~800℃로 가열된 후 촉매 반응부에서 분해되며, 분해가스인 산성가스를 포함하는 고온의 배기가스는 냉각용 열교환부에서 냉각되고, 냉각된 배기가스는 세정탑으로 유도하여 산성가스를 제거함으로써, 기존의 연소식이
과불화화합물을 포함하는 배기가스의 바이패스 기능을 갖는 배기가스 도입부(10)와, 이 배기가스 도입부(10)를 통해 도입된 배기가스를 예열하는 예열용 열교환부(20)와, 예열된 배기가스에 수증기를 공급하기 위한 수증기공급부(30)와, 과불화화합물을 포함하는 배기가스 및 촉매층 온도를 400~800℃의 온도로 가열하는 연소부(40)와, 이 연소부(40)에서 가열된 배기가스를 분해하는 촉매층을 갖는 반응부(50)와, 이 반응부(50)를 거쳐 배출되는 배기가스를 냉각하기 위한 냉각용 열교환부(60)와, 이 냉각용 열교환부(60)를 거친
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