최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
출원번호 | 10-2006-0080172 (2006-08-24) |
등록번호 | 10-0804748-0000 (2008-02-12) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020060080172 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
심사청구여부 | 있음 (2006-08-24) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 가교된 고분자 비드를 출발물질로 하여 마이크로에서 밀리미터에 이르는 크기 수준의 구형 탄소캡슐을 제조하는 방법에 관한 것이다. 특히 본 발명에서는 캡슐형태를 만들기 위해 템플레이트와 중간 매개체를 사용하지 않으면서도, 고분자 비드의 표면처리 및 2단계의 탄화과정을 통해 캡슐형태의 구형 탄소구조체를 제조하는 방법이 제공된다. 본 발명에 따른 구형의 마이크로 탄소캡슐은 기존의 분말형태나 과립상의 활성탄에 비해 분진발생이 적고, 취급이 용이하며 통기성이 우수하고 또한 캡슐구조의 특성을 이용하여 촉매, 탈착제, 흡착제, 저장
(A) 100 ㎛∼4 MM의 가교된 고분자 비드를 산성용액에서 열처리하거나 또는 경화제로 처리하여 고분자 비드의 외피 부분의 경화도 또는 가교도를 내부의 중심부분 보다 강화시켜 이중 구조의 고분자 비드를 만드는 표면처리 단계; (B) 상기 표면처리된 고분자 비드를 불활성가스 분위기에서 온도를 300∼500℃까지 승온시킨 후 5∼10시간 유지시켜 고분자 비드에 존재하는 수분을 제거하는 동시에 내부의 중심부분을 선택적으로 탄화시키는 제1차 탄화 단계; 및 (C) 상기 제1차 탄화에 이어 불활성가스 분위기에서 온도를 800∼1,000℃
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.