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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2006-0099494 (2006-10-12) |
등록번호 | 10-0805076-0000 (2008-02-13) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020060099494 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2006-10-12) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 하나의 장비로 웨이퍼의 신나 어텍 검사와 웨이퍼 표면에 도포된 포토 레지스터의 두께 측정 및 에지 노광을 포함한 웨이퍼의 측면 검사를 모두 함께 검사할 수 있도록 한 웨이퍼의 검사장비에 관한 것으로, 상.하면 및 측면을 갖는 장비 본체(1)의 내부에, 웨이퍼(W)를 고정하고 회전시키는 척(2)과; 상기 척(2)의 상부측에 설치되어 척(2)에 탑재된 웨이퍼(W)의 표면 신나 어텍을 검출하는 제1 장치(3)와; 상기 척(2)에 탑재된 웨이퍼(W)의 상부 측면과 하부 측면을 동시에 검사하여 이들의 조합에 의해서 웨이퍼(W)의
상.하면 및 측면을 갖는 장비 본체(1)의 내부에,웨이퍼(W)를 고정하고 회전시키는 척(2)과;상기 척(2)의 상부측에 설치되어 척(2)에 탑재된 웨이퍼(W)의 표면 신나 어텍을 검출하는 제1 장치(3)와;상기 제1 장치(3)의 타측 하부에 설치되어 척(2)에 탑재된 웨이퍼(W)의 상부 측면과 하부 측면을 동시에 검사하여 이들의 조합에 의해서 웨이퍼(W)의 측면 검사가 이루어지게 하는 제2 장치(4)와;상기 제2 장치(4)의 상부측에 설치되어 척(2)에 탑재된 웨이퍼(W)의 포토 레지스터 두께를 측정하는 제3 장치(5);가 구비된
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