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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2006-0135896 (2006-12-28) |
등록번호 | 10-0818424-0000 (2008-03-25) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020060135896 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2006-12-28) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 노광장비에서 CD의 정확한 제어를 위해 노광 에너지를 자동으로 보정하여 주는 노광 에너지 자동 조절 방법에 관한 것이다. 즉, 본 발명에서는 반도체 소자 제조를 위한 노광공정에 있어서, 패턴의 정확한 초점 제어를 위한 노광 장비에서의 노광 에너지 보정시, 종래 엔지니어가 직접 각각의 디바이스, 레이어에 대한 이전 데이터를 보고 보정 에너지값을 예측하여 보정하여야 함으로 정확도가 떨어지고, 재작업 발생하는 등의 문제점을 해결하기 위해, 포토레지스트 종류 및 두께, 베이크 온도, 레이저 소스 등의 노광 파라메터를 그룹핑하고
노광장비에서 CD의 정확한 제어를 위한 노광 에너지 자동 조절방법으로서,(A)노광공정 수행을 위한 웨이퍼 롯트를 노광공정 파라메타값에 따라 다수의 그룹으로 그룹핑하는 단계와,(B)상기 각 그룹핑에 대한 노광 에너지 변동을 데이터 베이스화하는 단계와,(C)노광공정 수행 시 상기 데이터 베이스 정보를 이용하여 상기 그룹핑된 웨이퍼 롯트별 노광 에너지를 자동으로 조절하는 단계를 포함하는 노광에너지 자동 조절 방법.
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