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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2006-0136388 (2006-12-28) |
등록번호 | 10-0840544-0000 (2008-06-17) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020060136388 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2006-12-28) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 실리카 입자의 표면개질방법에 관한 것으로, 1 단계 방법에 의해 표면이 개질된 실리카 입자를 제조하는 방법 및 상기 방법에 의해 제조된, 표면이 개질된 실리카 입자에 관한 것이다. 구체적으로 본 발명은 실리카 입자의 생성 도중에, 작용기로 치환된 알킬기, 또는 페닐기를 함유한 트리알콕시실란을 첨가하는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 표면개질방법은 반응물 및 그 비율을 최적화함으로써, 톨루엔과 같은 유독성 용매를 사용하는 2 단계 방법이 아닌, 간단한 1 단계 방법으로 실리카 표면을 개질하면서도, 고가의 유기실란을 소량
하기 단계를 포함하는, 표면개질된 실리카 입자의 제조방법:(A) 알콜 100 체적부 및 알콕시실란 8.8 내지 16.3 체적부를 혼합한 제 1 용액을 준비하는 단계; (B) 알콜 100 체적부, 암모니아수 2.5 내지 4.7 체적부, 및 물 27.0 내지 50.2 체적부를 혼합한 제 2 용액을 준비하는 단계; (C) 상기 제 1 용액 및 제 2 용액을 혼합하고, 3 내지 5 시간 동안 교반하는 단계; (D) 상기 제 1 용액 및 제 2 용액의 혼합물에, 상기 알콕시실란 100 몰부 당 하기 화학식 1의 화합물 2.7 내지 5.0 몰
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