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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2019-0155964 (2019-11-28) | |
공개번호 | 10-2021-0066563 (2021-06-07) | |
등록번호 | 10-2351824-0000 (2022-01-12) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020190155964 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2019-11-28) | |
심사진행상태 | 등록결정(재심사후) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 실리카(SiO2)의 표면 개질에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 실란커플링제를 이용한 소수성 실리카의 표면 개질방법에 관한 것이다.본 발명에 따른 방법에 의할 경우, 나노 크기의 실리카를 합성한 후 감압 및 건조공정 없이 용매 추가 및 pH 제어 후 실란커플링제를 투입하여 표면 개질반응을 함으로써, 공정개선을 통한 저비용으로 대용량의 소수성으로 표면 개질된 실리카를 제조할 수 있다는 잇점이 있다.
실리카의 표면 개질 방법으로서,졸-겔법에 의해 실리카(SiO2) 졸을 제조하는 단계;에탄올 및 증류수를 첨가하는 단계;pH를 조절하는 단계; 및실란 커플링제를 첨가하는 단계를 포함하며,상기 실란 커플링제는 OTES(octadecyl triethoxy silane)이고,에탄올과 증류수를 0.1~20wt%, 실란 커플링제를 0.1~10wt% 첨가하는 것을 특징으로 하는, 실리카의 표면 개질 방법.
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