최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
출원번호 | 10-2006-0138778 (2006-12-29) |
공개번호 | 10-2008-0062699 (2008-07-03) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020060138778 |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
본 발명의 광 근접효과 보정방법은, 듀티 테스트 패턴의 레이아웃을 설계하는 단계; 듀티 테스트 패턴의 레이아웃을 이용하여 레티클을 제작하는 단계; 레티클 상에 형성된 듀티 테스트 패턴의 임계치수를 측정하는 단계; 레이아웃 패턴의 임계치수와 레티클 상에 형성된 듀티 테스트 패턴의 임계치수 차이를 비교하여 레티클 모델을 설정하는 단계; 듀티 테스트 패턴을 웨이퍼 상에 노광시키는 단계; 웨이퍼 상에 노광된 듀티 테스트 패턴의 임계치수를 측정하는 단계; 웨이퍼 상에 노광된 듀티 테스트 패턴의 임계치수와 레티클 상에 형성된 듀티 테스트 패
듀티 테스트 패턴의 레이아웃을 설계하는 단계;상기 듀티 테스트 패턴의 레이아웃을 이용하여 레티클을 제작하는 단계;상기 레티클 상에 형성된 듀티 테스트 패턴의 임계치수를 측정하는 단계;상기 레이아웃 패턴의 임계치수와 레티클 상에 형성된 듀티 테스트 패턴의 임계치수 차이를 비교하여 레티클 모델을 설정하는 단계;상기 듀티 테스트 패턴을 웨이퍼 상에 노광시키는 단계;상기 웨이퍼 상에 노광된 듀티 테스트 패턴의 임계치수를 측정하는 단계;상기 웨이퍼 상에 노광된 듀티 테스트 패턴의 임계치수와 레티클 상에 형성된 듀티 테스트 패턴의 임계치수 차
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.