다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기
| 국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
|---|---|
| 국제특허분류(IPC8판) |
|
| 출원번호 | 10-2007-0005972 (2007-01-19) |
| 공개번호 | 10-2007-0077767 (2007-07-27) |
| 등록번호 | 10-0813796-0000 (2008-03-07) |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020070005972 |
| 발명자 / 주소 |
|
| 출원인 / 주소 |
|
| 대리인 / 주소 |
|
| 심사청구여부 | 있음 (2007-01-19) |
| 심사진행상태 | 등록결정(일반) |
| 법적상태 | 등록 |
패턴 면적값 산출방법은 하전 입자빔을 사용하여 묘화되는 묘화 패턴을 소정의 크기로 메쉬 형상의 복수의 제 1 그리드로 가상 분할하고, 상기 묘화 패턴을 상기 복수의 제 1 그리드로부터 상기 소정 크기의 반만큼 위치를 어긋나게 한 상기 소정의 크기로 메쉬 형상의 복수의 제 2 그리드로 가상 분할하고, 각 제 2 그리드 내의 패턴의 면적값을 상기 각 제 2 그리드 내의 패턴의 중심 위치가 바뀌지 않도록 상기 각 제 2 그리드의 복수의 정점에 분배하고, 하전 입자빔 묘화의 근접 효과 보정용으로 사용하는 제 1 그리드의 중심 위치에 정의되
하전 입자빔을 사용하여 묘화되는 묘화 패턴을 소정의 크기로 메쉬 형상의 복수의 제 1 그리드로 가상 분할하고,상기 묘화 패턴을 상기 복수의 제 1 그리드로부터 상기 소정의 크기의 반만큼 위치를 어긋나게 한 상기 소정의 크기로 메쉬 형상의 복수의 제 2 그리드로 가상 분할하고,각 제 2 그리드 내의 패턴의 면적값을 상기 각 제 2 그리드 내의 패턴의 중심 위치가 바뀌지 않도록 상기 각 제 2 그리드의 복수의 정점에 분배하고,하전 입자빔 묘화의 근접 효과 보정용으로 사용하는 각 제 1 그리드의 중심 위치에 정의되는 패턴의 면적값으로서,
Copyright KISTI. All Rights Reserved.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.