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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2007-0074206 (2007-07-24) |
공개번호 | 10-2009-0010809 (2009-01-30) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020070074206 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 싱글 기판 드라이어에서 약액 세정후 물반점 발생을 억제할 수 있는 기판 처리 방법에 관한 것이다. 본 발명의 기판 처리 방법은 기판 표면에 초순수로 수막을 형성한 후, 수막이 형성된 기판 표면으로 건조 기체를 공급하여 기판을 건조하되, 기판은 상기 건조 기체가 공급되기 전 표면이 공기 중에 노출되지 않도록 50rpm 이하로 회전된다. 상술한 방법에 의하면, 물반점을 획기적으로 감소시킬 수 있는 각별한 효과를 갖는다.
기판 표면 처리 방법에 있어서:기판 표면을 초순수로 린스하는 단계; 및건조 기체를 기판 표면에 공급하여 기판을 건조하는 단계를 포함하되;상기 건조 단계에서는 기판이 50rpm 이하의 극저속으로 회전되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
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